[发明专利]毛发去除和再生抑制装置有效

专利信息
申请号: 201280030900.X 申请日: 2012-06-21
公开(公告)号: CN103619209A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: P·所罗门;D·拉法埃利;I·组达 申请(专利权)人: 莱蒂恩思公司
主分类号: A45D26/00 分类号: A45D26/00;A61B18/18
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张兰英
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 毛发 去除 再生 抑制 装置
【权利要求书】:

1.一种毛发去除和再生抑制装置,该装置包括:

控制回路;

至少一个固定到外壳上的去除和抑制头;

至少一个扩展器组件,其偶联到所述至少一个去除和抑制头上,并远离所述至少一个去除和抑制头的壁延伸,所述至少一个扩展器组件在其端部处限定从所述至少一个去除和抑制头的壁去除的开口;

至少一个辐照元件,其固定到所述至少一个去除和抑制头上并响应于所述控制回路;

至少一个反射器,其固定到所述至少一个去除和抑制头,所述至少一个辐照元件设置在所述至少一个反射器和所述开口之间;以及

至少一个切割元件,其固定到所述至少一个去除和抑制头,并布置成当所述开口与具有从皮肤向外延伸的毛发的皮肤部分并置时便切割毛发,

其中,所述至少一个反射器布置成基本上将从所述至少一个辐照元件输出的电磁辐射朝向所述开口反射。

2.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,还包括与所述控制回路连通的运动传感器,其中,所述控制回路布置成:响应于由所述运动传感器探测到的相对运动,控制所述至少一个辐照元件的输出。

3.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,还包括与所述控制回路连通的运动传感器,其中,所述控制回路布置成:响应于由所述运动传感器探测到的比第一预定值大的相对运动速率,使所述至少一个辐照元件工作,而响应于由所述运动传感器探测到的比第二预定值小的相对运动速率,使所述至少一个辐照元件不工作。

4.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,还包括与所述控制回路连通的运动传感器,其中,所述控制回路布置成:响应于由所述运动传感器探测到的相对运动,控制由所述至少一个辐照元件输出的辐照量。

5.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,还包括运动传感器,其中,所述至少一个切割元件包括丝和带之一种,其中,所述控制回路布置成:响应于由所述运动传感器探测到的比第三预定值大的相对运动速率,提供功率以将所述至少一个切割元件加热到足以切割毛发的温度,而响应于由所述运动传感器探测到的比第四预定值小的相对运动速率,便停止对所述至少一个切割元件提供功率。

6.如权利要求5所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,足以切割毛发的温度是400°-1900℃。

7.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述外壳显现有排热口,允许热量从所述辐照元件输出到所述外壳周围的环境空气中。

8.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件是细长矩形的立方形。

9.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件是细长的圆柱形。

10.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个切割元件是刀片和加热元件之一种。

11.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个反射器布置成:基本上反射在1000纳米接收到的辐射的至少98%。

12.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件布置成输出电磁能,在500-5000纳米之间的光谱内显现为其能量的至少95%。

13.如权利要求12所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件布置成输出电磁能,在500-1000纳米之间的光谱内显现为小于其能量的10%。

14.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件布置成输出功率在0.5-20瓦之间的电磁能。

15.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述至少一个辐照元件布置成输出功率在1-10瓦之间的电磁能。

16.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置,其特征在于,所述控制回路布置成提供功率来加热所述至少一个辐照元件,其中,由所述至少一个辐照元件输出的辐射响应于所述至少一个辐照元件的加热。

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