[发明专利]对微流体装置的液体流顺序的控制有效

专利信息
申请号: 201280021051.1 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN103517762A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 若昂·加西亚·达丰塞卡;努诺·雷斯;塔尼亚·滕雷罗;桑德罗·米格尔·平托·博尔代拉 申请(专利权)人: 拜森菲特有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 杨生平;钟锦舜
地址: 葡萄牙*** 国省代码: 葡萄牙;PT
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摘要:
搜索关键词: 流体 装置 液体 顺序 控制
【权利要求书】:

1.一种用于处理液体的装置,所述装置围绕旋转轴可旋转以驱动在所述装置内的液体流,所述装置包括:

第一液体保持结构;

第二液体保持结构;

上游液体处理结构,其用于将液体供给到所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构;

下游液体处理结构,其用于容纳来自所述第一液体保持结构的液体;以及

导管,其将所述第二液体保持结构的出口连接至所述第一液体保持结构的入口,

所述导管包括从所述出口径向向内延伸到顶点并且从所述顶点径向向外延伸到所述入口的部分,从而能够使气体截留在来自所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构的各自的液体之间的所述部分中,以使得液体保持在所述第二液体保持结构中直至通过所述第一液体保持结构排出截留气体,然后液体通过所述第一液体保持结构从所述第二液体保持结构流到所述下游液体处理结构。

2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述装置设置成利用不少于所述第二液体保持结构和临近于所述第二液体保持结构的所述导管的一部分的体积的填充到处于所述导管的径向最内点的水平面的液体量来填充所述第二液体保持结构。

3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述装置设置成利用相当于所述导管和所述第二液体保持结构中的液面的液体量来填充所述第二液体保持结构,以使得作用在所述导管中的液体上的毛细管力足够于以比截止频率低的旋转频率吸引所述液体通过所述导管的径向最内点。

4.根据权利要求3所述的装置,其中,所述截止频率是30Hz。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置,包括连接所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构以平衡在其间的压力的排放导管。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置,包括用于将所述第一液体保持结构的另一个入口连接至第三液体保持结构的另一个出口的另一个导管,所述另一个导管包括沿所述另一个入口和所述另一个出口径向向内延伸的另一个弯曲部部分,从而能够使气体截留在来自所述第一液体保持结构和所述第三液体保持结构的相应液体之间的所述另一个弯曲部部分中,其中,在液体通过所述第一液体保持结构从所述第二液体保持结构流出以沿所述另一个入口径向向内地保持所述第一液体保持结构中的液面的同时,所述另一个入口沿所述入口径向向外以将液体保持在所述第三液体保持结构中。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的装置,所述装置设置成在所述装置以恒定的速率旋转的同时使液体顺序地从所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构移动到所述下游液体处理结构。

8.一种液体处理系统,其包括根据前述权利要求中的任一项所述的装置,所述装置联接至马达和控制器,所述控制器联接至所述马达以控制所述装置的旋转来顺序地分配来自所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构的液体。

9.根据权利要求8所述的液体处理系统,所述控制器可操作为使所述装置以基本恒定的频率旋转,从而顺序地分配来自所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构的液体。

10.一种液体处理系统,其包括:

用于利用液体填充第一液体保持结构和第二液体保持结构以使气体截留在所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构之间的导管中的设备;

用于在将液体保持在所述第二液体保持结构中的同时使液体从所述第一液体保持结构移动到下游液体处理结构的设备;以及

用于在通过所述第一液体保持结构将截留气体从所述导管排出之后,通过所述导管和所述第一液体保持结构使液体从所述第二液体保持结构移动到所述下游液体处理结构的设备。

11.根据权利要求10所述的液体处理系统,进一步包括:

用于利用液体填充第三液体保持结构以使气体截留在所述第一液体保持结构和所述第三液体保持结构之间的另一个导管中的设备;

用于在将液体保持在所述第三液体保持结构中的同时使液体从所述第一液体保持结构和所述第二液体保持结构移动到所述下游液体处理结构的设备;以及

用于在通过所述第一液体保持结构将截留气体从所述另一个导管排出之后,通过所述另一个导管和所述第一液体保持结构使液体从所述第三液体保持结构移动到所述下游液体处理结构的设备。

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