[发明专利]处理装置有效

专利信息
申请号: 201280017059.0 申请日: 2012-03-27
公开(公告)号: CN103547314A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: J·肯尼迪;J·于 申请(专利权)人: 赛诺龙美容有限公司
主分类号: A61N5/06 分类号: A61N5/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 邵伟
地址: 以色列雅克*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种皮肤处理装置,包括:

壳体,其包含用于发射电磁辐射的至少一个光源,所述电磁辐射具有用于处理一种或多种皮肤状况的所需特性;

置于所述壳体的一端部处的皮肤接触面,所述皮肤接触面适于将从所述至少一个光源发射的电磁辐射传递至使用者的皮肤;

振动器,其直接或间接地接触所述壳体的另一端部,所述振动器适于使皮肤接触面振动;以及

用于控制光源和振动器运行的控制组件。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述皮肤接触面包括适于拉伸使用者皮肤的一部分的一个或多个结构。

3.根据权利要求1所述的装置,其中所述皮肤接触面包括适于包围使用者的皮肤上的一个或多个皮肤结构的一个或多个结构。

4.根据权利要求1所述的装置,其中所述至少一个光源和所述振动器沿从壳体的一端部延伸至另一端部的轴线对齐。

5.根据权利要求4所述的装置,其中还包括外壳,所述外壳容纳沿着所述轴线与光源和振动器对齐的电路构件以及将所述电路构件轴向地彼此压靠以防止这些构件在扰动情形下错位的偏压件。

6.根据权利要求1所述的装置,其中所述壳体用于将从至少一个光源产生的热量传递至皮肤接触面和使用者的皮肤。

7.根据权利要求1所述的装置,其中所述电磁辐射在400-1500nm的范围内。

8.根据权利要求1所述的装置,其中所述电磁辐射在用于处理粉刺的400-450nm的范围内。

9.根据权利要求1所述的装置,其中所述电磁辐射在400-1500nm的范围内。

10.根据权利要求1所述的装置,其中用于处理的输出能量在5-15J/cm2的范围内。

11.根据权利要求1所述的装置,其中用于处理的输出能量在用于粉刺的4-8J/cm2的范围内。

12.一种皮肤处理装置,包括:

主体,所述主体在一端部处具有处理头部和在另一端部处具有施配器头部;

所述处理头部包括用于发射电磁辐射的至少一个光源,所述电磁辐射具有用于处理一种或多种皮肤状况的所需特性;

所述施配器头部包括用于施配用于处理一种或多种皮肤状况的所需物质的施配组件;以及

用于控制光源运行的控制组件。

13.根据权利要求12所述的装置,其中所述处理头部还包括适于将振动施加于使用者的皮肤的振动器。

14.根据权利要求12所述的装置,其中所述处理头部还包括用于将从至少一个光源产生的热量传递至皮肤接触面和使用者的皮肤的壳体。

15.一种用于皮肤处理装置的处理头部,所述处理头部包括:

壳体,其包含用于发射电磁辐射的至少一个光源,所述电磁辐射具有用于处理一种或多种皮肤状况的所需特性;

置于所述壳体的一端部处的皮肤接触面,所述皮肤接触面适于将从所述至少一个光源发射的电磁辐射传递至使用者的皮肤;以及

振动器,其直接或间接地接触所述壳体的另一端部,所述振动器适于使所述皮肤接触面振动。

16.根据权利要求15所述的处理头部,其中所述皮肤接触面包括适于拉伸使用者皮肤的一部分的一个或多个结构。

17.根据权利要求15所述的处理头部,其中所述皮肤接触面包括适于包围使用者的皮肤上的一个或多个皮肤结构的一个或多个结构。

18.根据权利要求16所述的处理头部,其中所述结构包括至少一个凸起。

19.根据权利要求16所述的处理头部,其中所述结构包括至少一个凹陷。

20.根据权利要求15所述的处理头部,其中所述壳体用于将从至少一个光源产生的热量传递至皮肤接触面和使用者的皮肤。

21.根据权利要求15所述的处理头部,其中所述皮肤接触面至少部分地由所述壳体形成。

22.根据权利要求15所述的处理头部,其中所述皮肤接触面包括置于所述壳体的一端部处的面板。

23.根据权利要求22所述的处理头部,其中所述面板可移除地置于所述壳体的所述一端部处。

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