[实用新型]一种液体补充装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及电解铜箔技术领域，特别涉及一种液体补充装置。

背景技术

铜箔后处理机为生箔表面粗化、固化、防氧化等处理的关键设备，其目的在于提高电解铜箔的抗剥离强度和抗拉强度，并使电解铜箔具备防氧化、防潮等性能，因此后处理机电解液的浓度配比对产品性能的影响非常重要。

目前后处理机各处理段均采用循环使用电解液，分时检测补充原料的方法，以维持电解液浓度在合格范围内。在补液过程中电解槽里的Cu²⁺浓度会发生明显变化，对后处理铜箔的均匀性及稳定性产生影响。

常规处理方法是在硫酸铜电解液补充回路中增加计量泵，用计量泵定量添加补充液，以提高电解液浓度的稳定性，但是计量泵在实际使用中存在磨损漏液、虹吸等影响，使用效果不佳，造价也相对较高，影响产品的品质。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于：提供一种液体补充装置，保证电解液浓度长时稳定，避免了常规计量泵因可靠性问题引起的流量不均、停机等风险，而且造价低，节能环保。

为解决上述技术问题，本实用新型提出了一种液体补充装置，包括电解槽、支架，该支架上设有位置高度高于电解槽高度的补液槽，补液槽通过流量阀与电解槽连接。

进一步地，，所述支架为不锈钢支架。

进一步地，，所述流量阀采用PVC流量阀。

进一步地，，所述补液槽采用PVC补液槽。

上述技术方案至少具有如下有益效果：本实用新型通过采用在支架上设有位置高于电解槽的补液槽，补液槽通过流量阀与电解槽连接，通过流量阀长时间恒流量补充电解液，即能保证电解液浓度长时间稳定，避免了常规计量泵可靠性问题引起流量不均、停机等风险，而且通过重力作用解决流量阀补液动力问题，不消耗电能，节能环保，同时造价低，简单易用，效果明显。

附图说明

图1是本实用新型液体补充装置的结构示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面结合附图对本实用新型做进一步描述。

如1图所示，本实用新型实施例的液体补充装置包括电解槽1、支架2、补液槽3、流量阀4。为了避免设备被电解液腐蚀，电解槽1、补液槽3、流量阀4均采用PVC材料制成，支架2采用不锈钢支架2。补液槽3通过支架2安装在电解槽1的上方，其底面高度高于电解槽1的顶面高度，流量阀4通过输液管设置在补液槽3和电解槽1之间。

工作时，通过流量阀4长时间恒流量向电解槽1补充电解液，保证电解液浓度长时间稳定，避免了常规计量泵可靠性问题引起流量不均、停机等风险，而且补液槽3通过不锈钢支架2安装在电解槽1的上方，通过重力作用解决了流量阀4补液动力问题，保证电解槽1中电解液Cu2+的浓度，不消耗电能，节能环保，同时造价低，简单易用，效果明显。

以上所述是本实用新型的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。