[实用新型]内腔喷釉机有效

专利信息
申请号: 201220677591.2 申请日: 2012-12-11
公开(公告)号: CN202936318U 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 郭元桐 申请(专利权)人: 郭元桐
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 何海帆
地址: 521000 广东省潮*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 内腔喷釉机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生产设备,尤其是一种对陶瓷产品内腔进行上釉的内腔喷釉机。

背景技术

在陶瓷产品等生产过程中,如马桶、花盆等,需要对坯体上釉。目前主要是采用人工使用喷枪手工上釉的方式,此种方式能满足一般的要求,但作业人员的工作劳动强度大,生产效率低,而且由于人的主观操作,随意性大,难以保证产品的整体喷釉均匀。同时在手工作业时,会产生釉料气雾,这些气雾粉尘不但污染工厂车间环境,而且会对人体造成伤害,导致职业病。对此,人们设计了喷釉设备以提高生产率,降低工人的劳动强度。但对于马桶等具有内腔且腔口处向内延伸有凸缘的产品,现有的喷釉设备则不能满足。 

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述已有技术的不足,提供一种结构简单、对陶瓷产品内腔喷釉均匀且效率高的内腔喷釉机。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种内腔喷釉机,其特征在于:该内腔喷釉机包括喷釉台、喷釉泵、喷釉枪、固定在喷釉台上的立柱和安装在立柱上支撑臂,喷釉泵与喷釉枪之间通过喷釉管道相连,在支撑臂上安装有一竖直转轴和一能驱动转轴上下移动的气缸,竖直转轴的下端、上端分别连接喷釉枪和一支架,气缸的活塞杆与支架相连接,在支架上还安装有一驱动转轴旋转的电机。

所述喷釉管道上还设有一吸釉泵。

所述吸釉泵还通过一软管与一吸釉枪相连接。

所述支撑臂活动连接在立柱上,支撑臂与立柱顶端之间设有一丝杆,丝杆的上端与立柱顶端固定连接,下端通过一齿轮箱与支撑臂相连接,齿轮箱与支撑臂固定连接且驱动装置驱动转动,支撑臂在驱动装置的驱动下能够上下移动。

所述驱动装置为与齿轮箱相连的电机驱动装置。

所述驱动装置为固定在齿轮箱上的手转轮。

所述喷釉枪上方还设有一盖罩。

本实用新型的有益效果是:结构简单,工人劳动强度低且生产效率高。通过可上下移动且旋转的喷釉枪,能够很好的对有凸缘的陶瓷产品内腔上釉,而且上釉均匀、效果好。

通过设置吸釉泵,在喷釉完成时,吸油泵工作,能使喷釉枪口不滴漏。而吸釉枪能有过多或滴落在腔底的釉料进行吸取回收。

通过驱动丝杠能使支撑臂上下移动,以使本实用新型能对不同高度产品的内腔上釉。

喷釉枪上方设置的盖罩能防止喷釉时釉料飘溅出,避免污染车间环境及影响工人健康。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例,对本实用新型做进一步的详细叙述。

如图1所示,本实用新型一种内腔喷釉机,包括喷釉台1、喷釉泵、喷釉枪2、固定在喷釉台1上的立柱3和安装在立柱3上支撑臂4。喷釉泵与喷釉枪2之间通过喷釉管道相连。在支撑臂4上安装有一竖直转轴5和一能驱动转轴上下移动的气缸6,竖直转轴5的下端、上端分别连接喷釉枪2和一支架7,气缸6的活塞杆61与支架7固定连接,在支架7上还安装有一驱动转轴旋转的电机8。喷釉枪2的喷嘴均能够转动调节角度,在使用前可对其调整到符合产品要求的最佳角度。

在喷釉管道上还设有一吸釉泵,吸釉泵还通过一软管9与一吸釉枪10相连接。通过吸釉枪10能对多余的釉料进行回收。喷釉泵和吸釉泵均安装在喷釉台1的下方。

上述支撑臂4活动连接在立柱3上,支撑臂4与立柱3顶端之间设有丝杆11,丝杆11的上端与立柱3顶端固定连接,下端通过一齿轮箱12与支撑臂4相连接,齿轮箱12与支撑臂4固定连接且由驱动装置驱动转动。驱动装置可以是多种实施方式,如可以是与齿轮箱相连的电机驱动装置;也可以是为固定设置在齿轮箱上的手转轮13,本实施例中,驱动装置为手转轮13,通过转动手转轮13,可使齿轮箱12沿着丝杆11上下移动,即带动与立柱3活动连接的支撑臂4上下移动。

在喷釉枪2上方还设有盖罩14。盖罩14由橡胶材料制成。在对产品内腔进行喷釉时,喷釉枪62上方设置的盖罩631能防止喷釉时釉料飘溅出,避免污染车间环境及影响工人健康。

下面以马桶为例,简述本实用新型的工作原理:

通过转动手转轮使支撑臂上下移动,调节支撑臂到合适的高度位置,将马桶放置在喷釉台上且位于喷釉枪的下方,启动后,气缸动作,带动转轴连同喷油枪向下移动至马桶的内腔内部,此时,喷釉枪喷出釉料,同时电机带动转轴转动,从而使喷釉枪转动喷釉,使其喷釉均匀。喷釉完成后,吸釉泵启动抽回喷釉枪口多余的釉料,电机停止,接着喷油枪复位,完成对一个马桶工件的喷釉。

如果釉料过多过厚,或者滴落在内腔底部沉积太多,还可使用吸釉枪回收釉料。

最后应当说明的是,以上内容仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对本实用新型保护范围的限制,本领域的普通技术人员对本实用新型的技术方案进行的简单修改或者等同替换,均不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

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