[实用新型]一种流体除铁装置有效
| 申请号: | 201220635192.X | 申请日: | 2012-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN202933781U | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
| 发明(设计)人: | 李泽 | 申请(专利权)人: | 李泽 |
| 主分类号: | B03C1/32 | 分类号: | B03C1/32 |
| 代理公司: | 佛山市永裕信专利代理有限公司 44206 | 代理人: | 杨启成 |
| 地址: | 528000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 流体 装置 | ||
技术领域:
本实用新型涉及一种流体除铁技术。
背景技术:
现有的陶瓷浆料的除铁,是在一南北磁场内将陶瓷浆料导入填充有软磁介质的通道内进行的,当软磁介质吸满铁磁物质后,就需要对软磁介质进行清洗,将软磁介质上所吸附的铁磁物质清除干净,以便重新投入除流体中的铁磁物质的工作中。陶瓷浆料导入填充有软磁介质的通道内的方式有两种,一种是从下往上导入,一种是从上往下导入。从下往上导入的方式由于容易保证陶瓷浆料在除铁磁物质过程中始终漫过软磁介质,达到流体中只有固液两相,避免了固液气三相流体的流速快的缺点,而且,陶瓷浆料流过各处的软磁介质的速度基本一致,因此,流体除铁磁物质效果好,但是,由于对软磁介质进行清洗时,需要反方向先从通道的底部排放余浆,从而存在余浆处理的问题;另一种的由上往下导入陶瓷浆料,虽然所产生的余浆少,甚至没有,但是,由于容易形成导致流速快的固液气三相流体,另外,通过软磁介质的陶瓷浆料是从通道的底部排走的,受重力及流体流动性质所决定,陶瓷浆料流过软磁介质的流速快,特别是中间的陶瓷浆料要比两边的陶瓷浆料的流速快,从而导致除铁效果不理想。另外,已有技术排放余浆时,由于产生抽吸力,容易将软磁介质上的铁磁物质带走,导致余浆含铁磁物质的量大,不容易处理。
发明内容:
本实用新型的发明目的在于提供一种既具有良好除流体中铁磁物质效果,同时,余浆量少,排余浆时,不会将软磁介质上的铁磁物质带走的流体除铁装置。
本实用新型的流体除铁装置是这样实现的,包括由电磁装置或者永磁体的南北极相对所形成的磁场、带有成品出口和废浆排放口的非导磁材料制成的通道、设置在通道内中上部的软磁介质,在通道的上面设置有清洁液喷洒装置,其特别之处在于带有阀门的成品出口位于通道下面的侧面,成品出口连接有斜向上的导管,导管的最高点位于软磁介质的下面,带有阀门的废浆排放口位于通道的底部或者成品出口与废浆排放口为同一个出口,出口上的阀门包括软管、设置在软管的一侧的挡块、设置在软管的另一侧的由气缸带动的压块,挡块随通道移动而同步移动。
本实用新型与已有技术相比,由于采用了带有阀门的成品出口设置在通道下面的侧面,成品出口连接有斜向上的导管,导管的最高点位于软磁介质的下面或者通过控制阀门的开度来有效地控制流体的流速,这样,有效地减缓了流体因自身的重力而导致的加速往下流动的速度,从而有效地实现通道内的流体在将软磁介质浸漫后的往下流动的目的,使流体以固液两相的状态充分地流经通道内的软磁介质,避免了流体以固液气三相的状态以较快的流速往下的冲刷而影响了软磁介质吸取铁磁物质的能力,保证了除铁磁物质的有效进行;排余浆时,通过控制阀门的开度控制余浆的排泄速度,避免了排余浆时的抽吸力抽吸软磁介质上的铁磁物质而导致的因余浆含铁磁物质过高而难以处理的情况的出现,使余浆能被充分地除铁磁物质成为成品,因此,本发明既具有良好除流体中铁磁物质效果,同时,排余浆时,不会将软磁介质上的铁磁物质带走的,余浆量少,甚至没有的优点。
附图说明:
图1为本实用新型实施例1的结构示意图;
图2为本实用新型实施例2的结构示意图;
图3为本实用新型的实施例1除铁过程工作流程图;
图4为本实用新型的实施例2除铁过程工作流程图。
具体实施方式:
现结合附图和实施例对本发明做进一步详细描述:
实施例1:如图1所示,本发明的流体除铁装置包括由电磁装置或者永磁体的南北极相对所形成的磁场1、带有成品出口2和废浆排放口3的非导磁材料制成的通道4、设置在通道4内中上部的软磁介质5,在通道4的上面进口设置有清洁液喷洒装置6和带有阀门10的流体导入口11,其特别之处在于带有阀门7的成品出口2位于通道4下面的侧面,成品出口2连接有斜向上的导管8,导管8的最高点A位于软磁介质5的下面,带有阀门9的废浆排放口3位于通道4的底部。流体导入口11上的阀门10和成品出口2上的阀门7包括软管15、设置在软管15的一侧的挡块16、设置在软管15的另一侧的由气缸17带动的压块18,挡块16、气缸17、压块18随通道4移动而同步移动。
废浆排放口3的阀门9包括软管15、设置在软管15的一侧的挡块16、设置在软管16的另一侧的由气缸17带动的压块18,挡块16随通道4移动而同步移动。
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