[实用新型]复合折射率ITO膜有效
申请号: | 201220623869.8 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN202930065U | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 陈宏彦;朱亦鸣;彭滟;蔡斌;张冬生;李刚正;李胜涛;黄志飞 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学;光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 | 代理人: | 陈伟勇 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 折射率 ito | ||
1.复合折射率ITO膜,包括一基底,其特征在于,所述基底上附着有一层下ITO膜层,所述下ITO膜层上附有一层上ITO膜层,上ITO膜层与下ITO膜层具有不同的折射率。
2.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述下ITO膜层为透明导电膜;所述上ITO膜层为透明导电膜,且两层透明导电膜折射率不同。
3.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度大于下ITO膜层。
4.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度等于下ITO膜层。
5.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度小于下ITO膜层。
6.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层折射率小于下ITO膜层。
7.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层折射率大于下ITO膜层。
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