[实用新型]复合折射率ITO膜有效

专利信息
申请号: 201220623869.8 申请日: 2012-11-22
公开(公告)号: CN202930065U 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 陈宏彦;朱亦鸣;彭滟;蔡斌;张冬生;李刚正;李胜涛;黄志飞 申请(专利权)人: 上海理工大学;光驰科技(上海)有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14
代理公司: 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 代理人: 陈伟勇
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 复合 折射率 ito
【权利要求书】:

1.复合折射率ITO膜,包括一基底,其特征在于,所述基底上附着有一层下ITO膜层,所述下ITO膜层上附有一层上ITO膜层,上ITO膜层与下ITO膜层具有不同的折射率。

2.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述下ITO膜层为透明导电膜;所述上ITO膜层为透明导电膜,且两层透明导电膜折射率不同。

3.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度大于下ITO膜层。

4.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度等于下ITO膜层。

5.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层厚度小于下ITO膜层。

6.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层折射率小于下ITO膜层。

7.根据权利要求1所述的复合折射率ITO膜,其特征在于:所述上ITO膜层折射率大于下ITO膜层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学;光驰科技(上海)有限公司,未经上海理工大学;光驰科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220623869.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top