[实用新型]一种涡旋反应釜合成装置

权利要求书

1.一种涡旋反应釜合成装置，包括反应釜体(1)；其特征在于：还包括设置在反应釜体(1)内的涡旋隔离机构(2)；所述涡旋隔离机构(2)包括多片蝶形叶片(21)、中心柱(22)和上层隔离筛(23)；所述多片蝶形叶片(21)按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱(22)上；所述中心柱(22)底部与上层隔离筛(23)固定；所述上层隔离筛(23)固定在反应釜体(1)的内壁下端。

2.根据权利要求1所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述反应釜体(1)包括外壳(11)、内胆(12)、进料口和出料口；所述外壳(11)和内胆(12)之间形成夹层(13)；所述进料口和出料口分别设置在反应釜体(1)顶部和底部；所述进料口处设置进料装置(3)；所述出料口处设置排料阀(4)。

3.根据权利要求2所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述反应釜体(1)的外壳(11)和内胆(12)均由依次相连的圆弧顶部、垂直壁和圆弧底部组成。

4.根据权利要求3所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述涡旋隔离机构(2)设置在所述反应釜体(1)的内胆(12)内，还包括设置在上层隔离筛(23)下方，且与内胆(12)固定的下层隔离筛(24)。

5.根据权利要求4所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述上层隔离筛(23)固定在内胆(12)的垂直壁下端的十分之一处；所述下层隔离筛(24)固定在内胆(12)的垂直壁与圆弧底部连接处。

6.根据权利要求5所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述上层隔离筛(23)和下层隔离筛(24)均为不锈钢材质，其上皆均匀分布小孔；所述上层隔离筛(23)上的小孔的孔径大于下层隔离筛(24)上的孔径，且二者孔径比例为5∶3。

7.根据权利要求2至6之一所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：还包括补水冷却机构(5)；所述补水冷却机构(5)包括补水喷嘴(51)；所述补水喷嘴(51)安装在反应釜体(1)的内胆(12)上，位于所述上层隔离筛(23)上方，并与外部水源连通。

8.根据权利要求7所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述补水喷嘴(51)的喷嘴位置对准所述涡旋隔离机构(2)的中心柱(22)与所述反应釜体(1)的内胆(12)内壁的中间点，其喷射出的水使位于所述上层隔离筛(23)上的反应物按逆时针方向移动。

9.根据权利要求8所述的一种涡旋反应釜合成装置，其特征在于：所述补水冷却机构(5)还包括补水盘管(52)、止水阀和补水泵；所述补水盘管(52)为紧贴在所述反应釜体(1)的内胆(12)外壁的不锈钢半管，并与补水喷嘴(51)连通；所述止水阀设置在补水盘管(52)的进水口处；所述补水泵与补水盘管(52)相通。