[实用新型]一种电化学加工窄槽的ECM装置有效
| 申请号： | 201220569324.3 | 申请日： | 2012-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN202943344U | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 怀华培;王建业;戴立强;颜勋;沈辉 | 申请（专利权）人： | 海宁市新艺机电有限公司 |
| 主分类号： | B23H3/00 | 分类号： | B23H3/00;B23H3/02 |
| 代理公司： | 杭州赛科专利代理事务所 33230 | 代理人： | 曹绍文 |
| 地址： | 314411*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 加工 ecm 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种电化学加工窄槽的ECM装置，包括电源设备和基座，基座上设置机架，其特征在于所述的基座上设置用于盛放待加工零件的固定座，所述的机架上设置一升降滑动座，所述的升降滑动座位于固定座的上方，所述的升降滑动座内设置振动机构，所述升降滑动座的底部设置电极夹具和工具电极。
2.根据权利要求1所述的一种电化学加工窄槽的ECM装置，其特征在于所述的工具电极除底面外，其余表面覆有绝缘涂层。
3.根据权利要求2所述的一种电化学加工窄槽的ECM装置，其特征在于所述涂层的厚度为2um-0.10mm。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种电化学加工窄槽的ECM装置，其特征在于所述的电源设备采用高频窄脉电流。
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