[实用新型]一种带揉捏式按摩滚轮有效

专利信息
申请号: 201220550609.2 申请日: 2012-10-25
公开(公告)号: CN202892358U 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 王昌华 申请(专利权)人: 上海泰昌健康科技有限公司
主分类号: A61H15/00 分类号: A61H15/00;A61H39/04
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 代理人: 叶克英
地址: 201411 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 揉捏 按摩 滚轮
【说明书】:

技术领域

本发明涉及足浴器内部的按摩装置,具体的是,一种带揉捏式按摩滚轮。

背景技术

目前在市面上的足浴器用于脚底滚动按摩装置一般只能对脚底部位进行按摩,对脚的两侧则没有很好的按摩效果,为了能够使用户在对脚底穴位进行按摩的同时,又能够对脚的两侧进行揉捏按摩,生产厂家就必须对摩擦装置改进。

发明内容

本发明目的是克服现有技术中存在的不能对脚侧按摩的不足,提出了一种全新结构的带揉捏式按摩滚轮。

为了实现上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:一种带揉捏式按摩滚轮,包括,滚轮支架、滚轮压座、挤压板和滚轮端面压板,所述滚轮支架外侧沿其周向间隔地分布有第一滚条和第二滚条且第一滚条和第二滚条活动地连接在滚轮支架上,其特征在于,所述滚轮支架的两端由内至外依次套设有一滚轮压座、一挤压板和一滚轮端面压板且该滚轮压座及滚轮端面压板能够随滚轮支架转动而一起转动,其中,左右两侧的挤压板倾斜设置且相对;在滚轮支架的底部设置有一滑槽且滑槽沿滚轮支架的轴向设置,所述挤压板的下端嵌设于该滑槽内,使滚轮支架在转动的过程中,滑槽能够限制挤压板转动。

更具体地说,所述滚轮端面压板上与挤压板相对的端面为斜面,滚条压座上与挤压板相对的端面为斜面,上述两斜面相互平行,所述挤压板上与滚轮端面压板相对的端面和与滚条压座相对的端面上各设有一环形槽,环形槽内装设有滚珠支架和滚珠。 

与现有技术相比,本发明的优点:通过挤压板左右来回摆动,使用户在对脚底穴位进行按摩的同时能够对脚的两侧进行揉捏按摩,提高按摩效果。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作详细说明。

图1为本实用新型的爆炸图。

图2为本实用新型的立体图。

图3为本实用新型的剖视图。

图示说明:

1、自攻螺丝      2、挤压板         3、滚珠           4、滚珠支架

5、滚条压座      6、第一滚条       7、滚轮支架   8、滚轮端面压板

9、滑槽         10、第二滚条。

具体实施方式

图1至3中所示的是一种带揉捏式按摩滚轮,包括,滚轮支架、滚轮压座、挤压板和滚轮端面压板,所述滚轮支架外侧沿其周向间隔地分布有第一滚条和第二滚条且第一滚条上的滚轮与第二滚条上的滚轮相互交错,第一滚条和第二滚条活动地连接在滚轮支架上,所述滚轮支架的两端由内至外依次套设有一滚轮压座、一挤压板(挤压板的上部为叶片型并高于其他部件)和一滚轮端面压板且该滚轮压座,并相互紧配合。所述滚轮端面压板上与挤压板相对的端面为斜面,滚条压座上与挤压板相对的端面为斜面,所述挤压板上与滚轮端面压板相对的端面和与滚条压座相对的端面上各设有一环形槽,环形槽内装设有滚珠支架和滚珠,滚珠的一面与滚轮端面压板抵触,另一面与滚轮压座相抵靠。左右两侧的挤压板倾斜设置且相对,两压板呈“八”字形,在滚轮支架的底部设置有一滑槽且滑槽沿滚轮支架的轴向设置,所述挤压板的下端嵌设于该滑槽内,使滚轮支架在转动的过程中,滑槽能够限制挤压板转动,挤压板不会随着转动部分旋转,而在水平轴线方向上有一定的活动空间。 

当驱动装置带动滚轮开始旋转运动的时候,滚轮的第一、第二滚条也随滚轮支架一起旋转,由于滚珠、滚珠支架、滚轮端面压板等部件的共同作用,分布在滚条两边的挤压板能够左右摆动,左挤压版与右挤压板摆动的速率保持一致但方向相反,当滚轮旋转一周时,挤压版刚好摆动一个周期。这样,左右挤压板之间形成的空间会随着滚轮的旋转由最大到最小这样不断循环的变化,从而,滚轮的滚条可以对人体的脚底进行滚动按摩,两边的挤压板可以同时对脚两侧进行揉捏按摩。

更为具体地说,滚轮静止时,滚轮端面压板的上端尺寸偏小,下端尺寸偏大,而滚条压座上端尺寸偏大,下端尺寸偏小,这样的方式就会使装配在中间的挤压版处于向外倾斜状态;当滚轮转过180°时,滚轮端面压板的端面尺寸就会使上端大下端小,滚条压板端面尺寸就变为上端小下端大,由于这两个部件的引导,挤压板会由最大限度向右倾斜转变为最大限度向左倾斜,当滚轮再旋转180°时,端面压板、滚条压板和挤压板就都会恢复原来的状态。滚轮两边的挤压板共同作用就能够实现对脚进行揉捏按摩的功能。

以上仅表达了本发明的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围,并且本发明不仅应用在足浴盆当中,还能涉及其他加热系统当中。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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