[实用新型]用于真空器件的真空保持系统有效
申请号: | 201220543826.9 | 申请日: | 2012-10-23 |
公开(公告)号: | CN202905649U | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 张扬;李玉江;张文凭;王怀德;陈智勇;唐松;高松海 | 申请(专利权)人: | 北京市北分仪器技术有限责任公司 |
主分类号: | H01J7/14 | 分类号: | H01J7/14;H01J7/18 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100095 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 真空 器件 保持 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及真空器件的真空保持技术领域,特别是涉及一种用于真空器件的真空保持系统。
背景技术
在科技飞速发展的今天,许多仪器设备对真空的要求越来越高,真空设备在长途运输过程中需要保持一定的真空度,如果没有真空保持系统,真空设备会收到环境大气的污染;应付突发事件的真空仪器在贮存过程中不可能持续供电,如果没有真空保持系统,仪器就不具备应对突发事件的能力,所以设计一套完备的真空保持系统是非常必要的。
真空保持系统可广泛应用在各类民用、军用电子管及真空器件中,更适用于各种高压及振动条件下要求高可靠性的军用各类真空器件中,如激光管、行波管、微波管、图像增强仪、真空玻璃等,还可在填充惰性气体的器件中应用,以提纯惰性气体。例如,质谱仪使用离子泵作为获得真空的主要手段,但是离子泵的启动有一定的真空度要求,然而,质谱仪在长时间停机断电后无法保证真空室内保持离子泵要求的启动真空度,故此需要真空保持系统进行维持。
美国SAES(赛斯集团)开发了一种用于保持真空度的多孔薄膜吸气剂(High Porosity Thin Film Getters或HPTF)。这种吸气剂是由在金属基材上涂镀高孔隙的、机械性能稳定的吸气剂制成。吸气剂镀层通过一种特殊的丝网印刷术淀积到金属基材上,通常是通过一种金属掩模在经过化学蚀刻的基材上印刷。然后将这些涂层在真空条件下进行高温烧结,由于在连接处形成了一层扩散层,吸气材料同基材完美地连为一体并机械的合并在一起。这款产品的优点在于可靠性高,有效吸附面积大,吸气剂利用效率高,缺点是外形尺寸较大,费用高昂,从而导致使用该吸气剂的真空保持系统的体积大,成本高。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型首先要解决的技术问题是:如何降低真空保持系统的体积及成本。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种用于真空器件的真空保持系统,所述真空保持系统包括:吸气剂元件、固定部和真空阀,所述吸气剂元件安装在所述固定部上,所述真空阀连接于所述固定部与所述真空器件之间。
优选地,所述吸气剂元件包括吸气材料部和加热丝部,所述加热丝部位于吸气材料部的两端。
优选地,所述固定部为法兰盘。
优选地,所述法兰盘上焊有多个真空引线端子,相邻的两个真空引线端子之间焊有吸气剂元件,且吸气剂元件之间形成串联结构。
优选地,所述吸气材料部由钛基非蒸散型室温吸气剂制成。
优选地,所述真空阀为常开电磁阀。
优选地,所述吸气剂元件的形状和大小由所述真空器件中真空室的容积和漏气率决定。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下优点:本实用新型所设计的真空保持系统体积小,成本低。
附图说明
图1是本实用新型实施例的系统结构示意图;
图2是吸气剂元件的结构示意图;
图3是吸气剂元件在法兰盘上的安装示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
如图1所示,本实用新型提供一种用于真空器件的真空保持系统,所述真空保持系统包括:吸气剂元件1、固定部2和真空阀3,所述吸气剂元件1安装在所述固定部2上,所述真空阀3连接于所述固定部2与所述真空器件的真空室4之间。
如图2所示,所述吸气剂元件1包括吸气材料部1-1和加热丝部1-2,所述加热丝部1-2位于吸气材料部1-1的两端。
所述固定部为法兰盘。所述法兰盘上焊有多个真空引线端子5,相邻的两个真空引线端子之间焊有吸气剂元件1,且吸气剂元件之间形成串联结构,如图3所示。
所述吸气材料部由钛基非蒸散型室温吸气剂制成。这种钛基非蒸散型室温吸气剂是以活性金属钛为基,添加适量的钼粉,经高温沉积等特殊工艺处理后,最终经高真空烧结而成的多孔吸气材料。核心材料呈多孔结构,具有较高的孔隙度和较大表面积,吸气剂颗粒之间有一定的粘结强度,因此它除了具有良好的室温吸气性能外,更具有良好的抵抗恶劣工作环境的强度和性能,同时可以根据具体需求制备成不同形状规格的元件。吸气剂的使用特点是它激活后,不需要加电或其他任何能量即可工作。
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