[实用新型]足浴盆的水流发生结构有效

专利信息
申请号: 201220506488.1 申请日: 2012-09-29
公开(公告)号: CN202858968U 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 林彬 申请(专利权)人: 宁波奥森健身器材科技有限公司
主分类号: A47K3/022 分类号: A47K3/022;A61H39/04
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 王江成
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 浴盆 水流 发生 结构
【权利要求书】:

1.一种足浴盆的水流发生结构,包括盆体(1),其特征在于:在所述盆体(1)的底部向外延伸形成圆形凹槽(2),在圆形凹槽(2)的开口端上罩设有端盖(6),端盖(6)上设有进水口(8)和出水口(9),在圆形凹槽(2)内设有可沿圆形凹槽(2)内壁上下滑动的磁性活塞(3),在与磁性活塞(3)对应的圆形凹槽(2)外套设有驱动线圈(4),驱动线圈(4)与外接电源相连。

2.根据权利要求1所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:在对应于磁性活塞(3)上方的圆形凹槽(2)内设有囊状水袋(12),囊状水袋(12)的开口向外延伸并通过端盖(6)同轴压封在圆形凹槽(2)的开口端上,磁性活塞(3)固定在囊状水袋(12)的底部。

3.根据权利要求2所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:所述囊状水袋(12)包括同轴设于圆形凹槽(2)内的波纹管(121)及封装在波纹管(121)下端口的底板(122),波纹管(121)的上端口水平向外延伸夹持在端盖(6)与圆形凹槽(2)的开口端之间。

4.根据权利要求1或2或3所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:在所述圆形凹槽(2)的开口端设有沉孔(7),端盖(6)嵌装在沉孔(7)内,且端盖(6)的上端面与盆体(1)底面相平齐。

5.根据权利要求1或2或3所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:所述线圈(4)设于壳体内,壳体包括一端开口的环形容纳腔(51)及罩设在环形容纳腔(51)开口端的定位板(52),在定位板(52)的周边设有定位孔,线圈(4)同轴设于环形容纳腔(51)内,壳体通过螺钉(53)固定在盆体(1)上。

6.根据权利要求1或2或3所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:在所述进水口(8)和出水口(9)内分别设有单向阀(10),单向阀(10)包括筒体(101),筒体(101)的一端为单向阀进水口(102),另一端为单向阀出水口(103),在靠近单向阀进水口(102)一端的筒体(101)内设有挡板(106),在挡板(106)上设有进水汇集口(104),在单向阀出水口(103)侧对应的进水汇集口(104)上封抵有阀片(105),阀片(105)转动连接在筒体(101)内壁上。

7.根据权利要求6所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:在所述阀片(105)与单向阀出水口(103)之间的筒体(101)上设有挡杆(107),且挡杆(107)的轴心线与阀片(105)的转轴共面且相互平行。

8.根据权利要求6所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:在对应于阀片(105)侧的进水汇集口(104)边沿上同轴设有环形凸台(108)。

9.根据权利要求1或2所述的足浴盆的水流发生结构,其特征在于:所述磁性活塞(3)呈圆柱形,且磁性活塞(3)的磁极方向与圆形凹槽(2)的轴线方向一致。

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