[实用新型]手扶抛光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于陶瓷表面抛光处理的手扶抛光机。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。在陶瓷领域中，如瓷砖的表面抛光通常需要手扶抛光机，降低所述瓷砖表面的粗糙度，现有的手扶抛光机如图1所示，包括抛盘1、抛头2、注水管3、抛片4以及电机（图中未示出），所述抛盘1为中空的圆柱体，所述抛头2为刚性抛头，所述抛头2固定连接于所述抛盘1的端部，所述电机与所述抛盘1固定连接，所述注水管3从所述抛盘1及所述抛头2中穿出，所述抛片4固定于所述抛头2的下端，将瓷砖5置于所述抛片4下端，所述电机带动所述手扶抛光机高速旋转，对所述瓷砖5的表面进行抛光处理。

但现有的手扶抛光机存在以下缺点：

1.由于瓷砖5本身存在平整度不足、釉层厚度限制等问题，在不平的瓷砖5表面上不能无限制的下抛，会使得所述瓷砖5表面有限的纹路被抛掉，失去原有纹路的颜色；

2.由于所述抛头2为面积较大的刚性抛头，对于表面平整度要求较高的瓷砖5，现有的抛头无法达到，目前市场上会采取弹性浮动的气压控制来达到目的，但这种方式造价较高且实现较困难。

因此，如何提供一种能够适用于表面平整度不足的瓷砖的手扶抛光机是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种手扶抛光机，以解决现有技术中的手扶抛光机对于表面平整度不足的瓷砖无法使用的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种手扶抛光机，包括抛盘、抛头、注水管、抛片以及电机，所述抛盘为中空的圆柱体，所述抛头固定连接于所述抛盘的端部，所述电机与所述抛盘固定连接，所述注水管从所述抛盘及所述抛头中穿出，所述抛片固定于所述抛头的下端，所述抛盘与所述抛片之间还设有弹性层。

较佳地，所述弹性层为发泡橡胶垫。

较佳地，所述抛片为魔术贴。

较佳地，所述电机采用变频控制。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：本实用新型在所述抛盘与所述抛片之间增加弹性层，使所述瓷砖更具缓冲性，且能够保护表面不平的瓷砖在重压下不发生破裂，不发生漏抛现象，在不平的砖面上均匀地将砖面抛光、抛亮。

附图说明

图1为现有的手扶抛光机的结构示意图；

图2为本实用新型一实施方式的手扶抛光机的结构示意图。

图1中：1-抛盘、2-抛头、3-注水管、4-抛片、5-瓷砖；

图2中：10-抛盘、20-抛头、30-注水管、40-抛片、50-瓷砖、60-弹性层。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。需说明的是，本实用新型附图均采用简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实用新型提供的手扶抛光机，如图2所示，包括抛盘10、抛头20、注水管30、抛片40以及电机（图中未示出），所述抛盘10为中空的圆柱体，所述抛头20固定连接于所述抛盘10的端部，所述电机与所述抛盘10固定连接，所述电机带动所述抛盘10高速旋转，所述注水管30从所述抛盘10及所述抛头20中穿出，所述抛片40固定于所述抛头20的下端，瓷砖50置于所述抛片40下方，所述注水管30中注入抛光液对所述抛片40与所述瓷砖50摩擦的部位进行润滑及降温，较佳地，所述抛盘10与所述抛片40之间还设有弹性层60，所述弹性层60使所述抛片40与所述瓷砖50的接触更具缓冲性，且能够保护表面不平的瓷砖50在重压下不发生破裂，不发生漏抛现象，且均匀地将砖面抛光、抛亮。

较佳地，请继续参考图2，所述弹性层60为发泡橡胶垫。所述发泡橡胶垫具有一定且合适的弹力、在泡水或重压下不易变形或失去弹性的特性。

较佳地，请继续参考图2，所述抛片40为魔术贴。由于针对不同的工序、材料等因素，需要频繁的更换不同目数的抛片40，采用所述魔术贴作为抛片40能够在不影响性能的前提下方便所述抛片40的更换。

较佳地，所述电机采用变频控制，在目数不同的抛片40情况下使用不同的抛光转速，从而提高抛光效率。