[实用新型]一种夜光双面数码喷绘布有效
申请号: | 201220472638.1 | 申请日: | 2012-09-17 |
公开(公告)号: | CN202826778U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 周洪达 | 申请(专利权)人: | 杭州弘泽新材料有限公司 |
主分类号: | B41M5/00 | 分类号: | B41M5/00;B32B27/12;B32B27/30;B32B7/08;B32B33/00;B32B37/06;B32B37/10 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中;杜敏芳 |
地址: | 311400 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 夜光 双面 数码 喷绘 | ||
技术领域
本实用新型属于喷绘布技术领域,具体涉及一种夜光双面数码喷绘布。
背景技术
目前市场上的喷绘布基本上由五部分组成,其从上至下依次为面层PVC膜、胶水层、基布层、胶水层和底层PVC膜。其中面层PVC膜、基布层和底层PVC膜通过胶水层连接在一起,此类喷绘布适用于单面喷绘,并不适合与双面喷绘。此类喷绘布由于采用了胶水层,其具有以下缺点:1)胶水层为化学胶,对环境不友好;2)生产过程中,多了涂胶这个步骤,提高了生产成本;3)涂胶过程中胶水的化学作用会对人体产生毒害;4)胶水层涂胶不均匀,会直接影响PVC膜上喷绘的图案,影响视觉效果;5)自身不能发光,需要借助外部发光体进行照射采用用于夜间使用。
实用新型内容
针对现有技术存在的问题,本实用新型的目的在于设计提供一种夜光双面数码喷绘布的技术领域。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,包括基布,其特征在于所述的基布上表面依次复合设置面层PVC膜和夜光面层,所述的基布下表面依次复合设置PVC遮光膜、底层PVC膜和夜光底层。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,其特征在于所述的夜光面层上表面复合设置面层透明薄膜。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,其特征在于所述的夜光底层下表面复合设置底层透明薄膜。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,其特征在于所述的夜光面层和夜光底层为树脂夜光粉层。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,其特征在于所述的PVC遮光膜为PVC黑膜或PVC灰膜。
所述的一种夜光双面数码喷绘布,其特征在于所述的面层PVC膜和底层PVC膜为PVC白膜。
上述的一种夜光双面数码喷绘布,结构简单,设计合理,通过热压方式将面层PVC膜、基布、PVC遮光膜和底层PVC膜复合在一起,取消了原有的胶水层,降低了生产成本,对环境友好,无污染;通过PVC遮光膜的遮光,实现对该喷绘布进行双面喷绘;由于无胶水层涂胶均匀度的干扰,在该喷绘布上双面喷绘得到的图案,清晰逼真,正反面图案互不干扰,视觉效果好;通过设置夜光层,使得数码喷绘布能够自身发光,使数码喷绘布上图案在夜间更为醒目,增加实用性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中:1-面层透明薄膜;2-夜光面层;3-面层PVC膜;4-基布;5-PVC遮光膜;6-底层PVC膜;7-夜光底层;8-底层透明薄膜。
具体实施方式
以下结合说明书附图来进一步说明本实用新型。
如图所示,一种夜光双面数码喷绘布从上至以下依次包括面层透明薄膜1、夜光面层2、面层PVC膜3、基布4、PVC遮光膜5、底层PVC膜6、夜光底层7、和底层透明薄膜8。面层PVC膜3、基布4、PVC遮光膜5和底层PVC膜6通过热压的方式复合在一起。
面层PVC膜3和底层PVC膜6为PVC白膜,其厚度为0.5~5mm,其上可喷绘图案或文字。PVC遮光膜5为PVC黑膜、PVC灰膜或其他有遮光作用的色膜,其厚度为0.5~5mm,其主要起到遮光的效果,防止喷绘在面层PVC膜3和底层PVC膜6的上的图案干扰。基布4可以采用涤纶经编基布,也可以采用其它纺织布,其厚度为0.5~5mm。夜光面层2和夜光底层7为树脂夜光粉层,其可以根据面层PVC膜3和底层PVC膜6上喷绘的图案或文字复合设置在面层PVC膜3和底层PVC膜6上。面层透明薄膜1复合设置在夜光面层2上表面,主要起到保护夜光面层2。底层透明薄膜8复合设置在夜光底层7下表面,主要起到保护夜光底层7。
上述的一种夜光双面数码喷绘布,结构简单,设计合理,通过热压方式将面层PVC膜3、基布4、PVC遮光膜5和底层PVC膜6复合在一起,取消了原有的胶水层,降低了生产成本,对环境友好,无污染;通过PVC遮光膜5的遮光,实现对该喷绘布进行双面喷绘;由于无胶水层涂胶均匀度的干扰,在该喷绘布上双面喷绘得到的图案,清晰逼真,正反面图案互不干扰,视觉效果好;通过设置夜光面层2和夜光底层7,使得数码喷绘布能够自身发光,使数码喷绘布上图案在夜间更为醒目,增加实用性。
以上所述及图中所示的仅是本实用新型的优选实施方式。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以作出若干变型和改进,这些也应视为属于本实用新型的保护范围。
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