[实用新型]低音箱有效
申请号: | 201220464074.7 | 申请日: | 2012-09-12 |
公开(公告)号: | CN202818569U | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 黄兴志;严绪东 | 申请(专利权)人: | 瑞声光电科技(常州)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H04R1/20 | 分类号: | H04R1/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213167 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 音箱 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种低频重放的低音箱。
背景技术
在目前的低音箱中,由于扬声器的高度受到明显的限制,其振幅也被限制在较小的范围内,在这种情况下,扬声器的振幅输出很难获得较大的低频重放。也就是说,低音箱的低频重放性能受到了很明显的限制。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是低音箱的低频重放性能不佳的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型实施例公开了一种低音箱,所述低音箱包括腔体和位于所述腔体内的扬声器。所述低音箱还包括第一导管和第二导管,所述第一导管为U型结构,包括两延伸臂和分别与所述两延伸臂连接的底部,所述第一导管的底部位于所述腔体的开口一侧,所述扬声器的发声方向朝向所述第一导管的底部,所述第二导管位于所述第一导管的两延伸臂之间并向所述第一导管的底部延伸,所述扬声器位于所述第二导管和所述第一导管的其中一延伸臂之间。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述第一导管的长度为所述扬声器的低频重放频率F0处波长的1/4。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述第二导管的长度为所述第一导管总长度的1/3。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述第一导管的面积大于等于所述扬声器的振动面积。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述第二导管的延伸方向垂直于所述第一导管的底部。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述第二导管与所述第一导管的所述两延伸臂之间的距离相等。
在本实用新型的一较佳实施例中,所述扬声器位于所述第一导管的其中一所述延伸臂的末端处。
相较于现有技术,本实用新型实施例的低音箱可以在所述扬声器的振幅输出较小处得到较大的低频重放,大幅度提升所述扬声器的可承受重放功率,从而拓展所述低音箱的低频重放性能。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1是本实用新型低音箱一较佳实施例的立体结构示意图;
图2是图1所示低音箱的立体分解结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例公开了一种低音箱,请同时参阅图1和图2,所述低音箱1包括具开口的收容空间的壳体2、位于所述收容空间内的扬声器3、第一导管4和第二导管5。所述扬声器3收容于所述壳体2的收容空间内。所述导管4、5位于所述收容空间内,且形成在所述壳体2的内部表面。
所述第一导管4整体呈U型结构,包括两延伸臂42和分别与所述两延伸臂42连接的底部44。所述第一导管4的底部44位于所述收容空间的开口一侧设置。所述第二导管5位于所述第一导管4的两延伸臂42之间,其一端连接所述壳体的内侧表面,另一端则向所述第一导管4的底部44方向延伸设置。所述扬声器3位于所述第二导管5和所述第一导管4的其中一所述延伸臂42之间。所述扬声器3的发声方向朝向所述第一导管4的底部44。
具体的,所述低音箱1的壳体2包括上盖12和下盖14,所述上盖12和所述下盖14相互配合形成具有一开口(未标示)的收容空间,所述第一导管4、所述第二导管5和所述扬声器3均设置在所述收容空间内,并形成在所述下盖14内侧表面。
所述第一导管4的开口方向与所述收容空间的开口方向相反,其包括两个相互平行的所述延伸臂42和分别与所述两个延伸臂42连接的所述底部44。其中,所述第一导管4所围成区域面积大于等于所述扬声器3的振动面积,且所述第一导管4的长度为所述扬声器3的低频重放频率F0处波长的1/4。
所述第二导管5主要用于声阻匹配,进一步的,所述第二导管5的延伸方向垂直于所述第一导管4的底部44,其长度为所述第一导管4总长度的1/3。在本实施例中,所述第二导管5与所述第一导管4的所述两延伸臂42的距离相等,所述扬声器3位于所述第一导管4的其中一所述延伸臂42的末端处。
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