[实用新型]基于铜粉回收的导入箱

说明书

技术领域

本实用新型涉及导入箱，尤其是涉及基于铜粉回收的导入箱，属于化工领域。

背景技术

碱性蚀刻液是现今化工领域常用的原料，碱性氯化铜蚀刻液1）适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻；2）蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制；3）蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻液中的铜离子的浓度、PH值、氯化按浓度以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响。掌握这些因素的影响才能控制溶液，使之始终保持恒定的最佳蚀刻状态，从而得到好的蚀刻质量。在自动控制蚀刻系统中，铜浓度是用比重控制的。在印制板的蚀刻过程中，随着铜的不断溶解，溶液的比重不断升高，当比重超过一定值时，自动补加氯化按和氨的水溶液，调整比重到合适的范围。一般比重控制在18一240Be’。溶液PH值的影响蚀刻液的PH值应保持在8.0一8.8之间。当PH值降到8.0以下时，一方面是对金属抗蚀层不利。另一方面，蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子，溶液要出现沉淀，并在槽底形成泥状沉淀。这些泥状沉淀能在加热器上结成硬皮，可能损坏加热器，还会堵塞泵和喷嘴，给蚀刻造成困难，如果溶液PH值过高，蚀刻液中氨过饱和，游离氨释放到大气中，导致环境污染。另一方面，溶液的PH值增大也会增大侧蚀的程度，而影响蚀刻的精度。蚀刻液温度低于400C,蚀刻速率很慢，而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量，影响蚀刻质量。温度高于60℃，蚀刻速率明显增大。但NH3的挥发量也大大增加，导致污染环境并使蚀刻液中化学组份比例失调。故一般应控制在45℃一55℃为宜。由于铜是在碱性蚀刻液中的重要成分，回收处理是把溶液中的铜离子通过电解原理变成铜粉，每次电解完要产生几百公斤的铜粉，由于铜粉的单位体积或者重量的原因，操作人员在装袋时无法进行控制，使得装袋后的体积质量无法统一，增大了操作人员的劳动强度。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足，提供基于铜粉回收的导入箱，该导入箱的结构简单，利用料板与底板之间构成的倾斜角度，在自重的作用下，铜粉能够自由滑落到包装袋中，通过控制板的闸道作用随时控制铜粉的输出，实现了对铜粉包装量的控制，保证了每一袋铜粉的装料体积与质量，同时减轻了操作人员的劳动强度。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：基于铜粉回收的导入箱，包括内部中空，且两端开口的支撑座，所述支撑座的一个开口端设置有挡圈，挡圈与支撑座的内壁之间均设置有料板，且所述料板的底端之间依次连接构成密封整体；所述支撑座的外壁上设置有与支撑座内部连通的出料装置，且出料装置与料板之间的空腔连通。

进一步地，所述料板包括一块料板一、一块料板二、以及两块料板三，其中料板一的长度长于料板二的长度，料板一设置在靠近出料装置的位置，料板二设置在料板一的对面，料板三设置在料板一和料板二之间。

进一步地，所述料板一的底部、料板二的底部以及料板三的底部均同时连接有底板，且底板折叠后两侧分别与料板三的底部连接，底板的两端分别与料板一的底部和料板二的底部连接，所述料板一、料板二、料板三以及底板之间构成的腔体结构为料斗。

进一步地，所述出料装置包括出料通道和控制板，控制板设置在支撑座的外壁和出料通道之间，控制板的一端插入出料通道内部密封出料通道，且控制板能够沿着支撑座的外壁向上移动。

进一步地，所述出料通道的顶端与料斗内壁的最底端在同一水平面内。

进一步地，所述挡圈的表面内凹构成环形凹槽。

综上所述，本实用新型的有益效果是：该导入箱的结构简单，利用料板与底板之间构成的倾斜角度，在自重的作用下，铜粉能够自由滑落到包装袋中，通过控制板的闸道作用随时控制铜粉的输出，实现了对铜粉包装量的控制，保证了每一袋铜粉的装料体积与质量，同时减轻了操作人员的劳动强度。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图。

附图中标记及相应的零部件名称：1—挡圈；2—环形凹槽；3—底板；4—料板二；5—料板三；6—料斗；7—支撑座；8—控制板；9—出料通道。

具体实施方式

下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不仅限于此。

实施例：