[实用新型]一种光学滤波器有效
申请号: | 201220376225.3 | 申请日: | 2012-07-31 |
公开(公告)号: | CN202758091U | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 艾曼灵;金波;顾培夫;寇立选;张兰;潘帅 | 申请(专利权)人: | 杭州科汀光学技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;B32B27/06;B32B9/04 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 311100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 滤波器 | ||
1.一种光学滤波器,包括基片以及设置在所述基片两侧的光学膜,其特征在于,所述基片为蓝塑料基片,所述蓝塑料基片的厚度为0.05mm~0.2mm。
2.根据权利要求1所述的光学滤波器,其特征在于,所述蓝塑料基片的厚度为0.08mm~0.12mm。
3.根据权利要求1所述的光学滤波器,其特征在于,所述基片与光学膜之间设有HfO2过渡层。
4.根据权利要求3所述的光学滤波器,其特征在于,所述HfO2过渡层的厚度为8nm~20nm。
5.根据权利要求1所述的光学滤波器,其特征在于,所述光学膜为设置在基片一侧的隔红外滤光膜以及设置在基片另一侧的隔红外-紫外滤光膜,所述隔红外滤光膜由TiO2高折射率膜层和SiO2低折射率膜层交替构成,所述隔红外-紫外滤光膜由SiO2低折射率膜层和TiO2高折射率膜层交替构成。
6.根据权利要求5所述的光学滤波器,其特征在于,所述隔红外滤光膜中的TiO2高折射率膜层和SiO2低折射率膜层总共为20~28层,所述隔红外滤光膜中的TiO2高折射率膜层厚度为75nm~95nm,所述隔红外滤光膜中的SiO2低折射率膜层厚度为140nm~155nm;
所述隔红外-紫外滤光膜中的SiO2低折射率膜层和TiO2高折射率膜层总共为17~21层,所述隔红外-紫外滤光膜中的SiO2低折射率膜层厚度为90nm~191nm,所述隔红外-紫外滤光膜中的TiO2高折射率膜层厚度为98nm~116nm。
7.根据权利要求6所述的光学滤波器,其特征在于,所述隔红外滤光膜中的TiO2高折射率膜层和SiO2低折射率膜层总共为24层,靠近基片的第一层为TiO2高折射率膜层,第二层为SiO2低折射率膜层,依次交替,厚度依次为94.4nm,154nm,81.6nm,145nm,78.7nm,142.3nm,77.7nm,141.3nm,77.3nm,140.9nm,77.1nm,140.6nm,77.1nm,140.7nm,77.4nm,140.8nm,77.7nm,141.4nm,78.7nm,143.1nm,81.2nm,148.2nm,83.4nm,153.6nm;
所述隔红外-紫外滤光膜中的SiO2低折射率膜层和TiO2高折射率膜层总 共为19层,靠近基片的第一层为SiO2低折射率膜层,第二层为TiO2高折射率膜层,依次交替,厚度依次为173.3nm,105.4nm,188.1nm,114.5nm,190.6nm,115.5nm,190.8nm,115.5nm,189.8nm,113.9nm,186.0nm,106.7nm,167.6nm,98.3nm,177.9nm,109.5nm,180.8nm,108.4nm,90.1nm。
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