[实用新型]触摸屏用复合薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及触摸屏领域，特别是涉及一种触摸屏用复合薄膜触摸屏用复合薄膜。

背景技术

氧化铟锡（Indium Tin Oxide，简称ITO）透明导电膜是一种n型简并半导体，由于其具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和化学稳定性等优点，越来越受到关注，已经在很多领域得到了应用。目前，触摸屏用复合薄膜主要用于两方面，一方面用于柔性显示设备，如柔性触屏、有机电致发光显示器等。另一方面，作为太阳能电池板、太阳能控制膜（车膜、建筑玻璃膜等）的基材。

传统的电阻式触摸屏用复合薄膜的结构一般为HC（hard coating，硬涂层）/PET（Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯）/HC/SiO₂/ITO，其中，HC/PET/HC为复合基材。然而，传统的SiO₂和ITO薄膜在复合基材上的附着力较差，因此在该复合薄膜的制造过程中需要对复合基材进行充分脱气处理。此外，传统的电阻式触摸屏用复合薄膜生产工艺对复合基材脱气要求非常严格，复合基材需要在预处理设备中以0.9m/min的走速走三遍，因而一卷500m的基材的预处理时间就需要28小时，转入到主设备后在镀膜前还需要再脱气一遍，生产效率非常低下。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种SiO₂和ITO薄膜在PET基材上附着力较好的触摸屏用复合薄膜。

一种触摸屏用复合薄膜，包括依次层叠设置的硬涂层、PET基材、SiO_x层、SiO₂层及ITO层，其中，x的范围是1.0~1.9。

在其中一个实施例中，所述SiO_x层的厚度为4~6nm。

在其中一个实施例中，所述SiO₂层的厚度为10~30nm。

在其中一个实施例中，所述ITO层的厚度为10~20nm。

在其中一个实施例中，所述硬涂层的厚度为2~3μm，所述PET基材的厚度为100μm、125μm或188μm。

在其中一个实施例中，还包括设在所述PET基材与所述SiO_x层之间的厚度为2~3μm的硬涂层。

通过改变传统的触摸屏用复合薄膜的结构，在复合基材与SiO₂层之间增加SiO_x层过渡层，由于SiO_x层中存在一定的Si-悬键，该Si-悬键能与复合基材表面（HC层表面）的C-H或C-OH键形成C-Si或C-O-Si共价键，从而增强SiO₂层和ITO层在复合基材上的附着力，且对复合基材脱气的要求大大降低，脱气处理的时间变短，而且在主设备镀膜前复合基材不再需要进行脱气处理，大大提高了触摸屏用复合薄膜的生产效率。同时因为SiO_x层和SiO₂层能起到对基材的覆盖作用，阻挡了复合基材中水分对ITO镀膜的影响，保证ITO电阻的稳定性。

附图说明

图1为一实施方式的触摸屏用复合薄膜的结构示意图；

图2为图1中复合基材的结构示意图；

图3为一实施方式的触摸屏用复合薄膜的制造方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图对触摸屏用复合薄膜及其制造方法进行进一步说明。

如图1所示，一实施方式的触摸屏用复合薄膜100包括依次层叠设置的复合基材110、SiO_x层120、SiO₂层130及ITO层140。其中，x的范围是1.0~1.9。

如图2所示，在本实施方式中，复合基材110包括两层硬涂层112及位于两层硬涂层（HC）112之间的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）基材114。其中，硬涂层112的厚度为2~3μm。PET基材114的厚度为100μm、125μm或188μm。SiO_x层的厚度为4~6nm。SiO₂层的厚度为10~30nm。ITO层的厚度为10~20nm。硬涂层112用于保护PET基材114，可以提供PET基材114表面2H~3H的硬度。此外，在其他实施方式中，复合基材110还可以只包括一层硬涂层112，相应地，SiO_x层120设在该单层硬涂层112上，其他膜层结构同本实施方式。