[实用新型]PVD镀炉用气体流量控制器有效

专利信息
申请号: 201220353560.1 申请日: 2012-07-19
公开(公告)号: CN202688429U 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 禹跃斌 申请(专利权)人: 贝尔罗斯(广州)电子部件有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 汤喜友
地址: 510560 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: pvd 镀炉用 气体 流量 控制器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种PVD镀炉用气体流量控制器。

背景技术

PVD镀炉需要由混合气体进行工作,控制不同气体的流量可以达到控制混合气体量的目的。传统的流量控制器在气体混合后马上由三通管分成两路气体进入镀炉内,虽然混合气管通入工作间(PVD镀炉)的路径很长,但由于两种工作气体在流量控制器混合后,立即被分成了两路,使得混合气体难以按需要的比例均匀混合。

实用新型内容

针对上述现有技术不足,本实用新型要解决的技术问题是提供一种能使混合气体容易按需要的比例混合的PVD镀炉用气体流量控制器。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为,一种PVD镀炉用气体流量控制器,包括气体流量控制机构、混合气管、分流气管和若干进气管;进气管分别与气体流量控制机构的进气口连接,混合气管的进气口与气体流量控制机构的出气口连接,混合气管的排气口与分流气管连接;分流气管置于PVD镀炉炉体内。这样的结构使气体混合后不会马上被分成两路,而是需要经过一段长时间的管路,再从PVD镀炉炉体内分流,从而有利于两种气体混合均匀。

优选地,所述混合气管长度为150厘米。这样的结构增长混合路径,提高混合气体的均匀性。

进一步的技术方案为,所述分流气管的排气口有四个。PVD镀炉内均匀分布四个靶材,这样的结构使混合气体分流成四路,可直接对应四个靶材,使混合气体可以更均为地充满整个工作间,使反应更迅速。

优选地,气体流量控制机构的控制端与计算机相连。这样的结构使混合气体比例控制更精确。

本实用新型的PVD镀炉用气体流量控制器能使混合气体容易按需要的比例混合,保证混合气体的均匀性,从而达到使产品表面性质稳定,外观色泽均匀的目的,结构简单、易于实现。

附图说明

图1是本实用新型PVD镀炉用气体流量控制器的结构示意图。

其中,1、气体流量控制机构;2、混合气管;3、分流气管;4、进气管;5、气罐6、PVD镀炉。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型的PVD镀炉用气体流量控制器,包括气体流量控制机构1、混合气管2、分流气管3和若干进气管4;进气管4分别与气体流量控制机构1的进气口连接,混合气管2的进气口与气体流量控制机构1的出气口连接,混合气管2的排气口与分流气管3连接,分流气管置于PVD镀炉6的炉体内。所述混合气管2长度为150厘米。所述分流气管3的排气口有四个。气体流量控制机构1的控制端与计算机相连(图未示出)。各个进气管4分别与不同气体的气罐5连接,由气体流量控制机构1控制各种气体的流量使各气体按需要在混合气管2中混合,并最终传至PVD镀炉6炉体内。

对本领域的技术人员来说,可根据以上描述的技术方案以及构思,做出其它各种相应的改变以及形变,而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。

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