[实用新型]一种低温氯化炉炉底装置有效

专利信息
申请号: 201220345007.3 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN202688005U 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 王建鑫;陆平;刘森林;张苏新;周艾然;杨仰军 申请(专利权)人: 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司
主分类号: C01G23/02 分类号: C01G23/02
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 谭昌驰
地址: 617000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 低温 氯化 炉炉底 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及低温氯化法生产四氯化钛的设备,更具体地讲,涉及一种用于低温氯化炉的炉底装置。

背景技术

高钛型高炉渣中的TiO2含钛量达20%-23%,是宝贵的二次资源。“高温碳化-低温选择性氯化制取TiCl4”是开发利用高钛型高炉渣的前沿技术,四氯化钛是钛工业的重要中间产品。

目前,在该领域的工业生产中,低温氯化炉炉底气体分布器与原料直接接触,原料的低温氯化过程是一个很强的放热反应,多余的热量若不能及时带走,局部温度的升高会造成物料粘结或烧结,不能正常流化,导致氯化炉“死炉”;另外,为了减小流态化的死区,通常炉底内的气体分布器与炉底壁面的距离较近,容易导致氯气腐蚀炉壁穿孔,无法进行连续生产;第三,物料容易堵塞部分气体分布器的气孔,造成氯化气体分布不均匀,影响氯化效率,降低资源利用率;最后,炉底排渣口较小且只有一个,堵塞后就只能停炉。因此,研制合理的氯化炉炉底装置和可行有效的气体分布器,是实现低温氯化连续稳定运行的首要任务。

实用新型内容

鉴于现有技术存在上述不足,本实用新型的目的之一在于解决现有技术所存在的上述不足中的任意一项。例如,本实用新型解决的技术问题包括以下问题中的一个或多个:提供一种便于安装、拆除,并且结构紧凑合理的低温氯化炉炉底装置;提供能够实现气体均匀分布,能减少气体对炉底壁面的腐蚀的低温氯化炉炉底装置;提供一种能够避免炉底气体分布器与原料直接接触的低温氯化炉炉底装置;提供一种能够顺利排渣、便于清理的低温氯化炉炉底装置。

本实用新型提供了一种低温氯化炉炉底装置,所述低温氯化炉炉底装置包括耐火砌筑结构、筛板、气体分布器、排渣管,其中,所述耐火砌筑结构具有内腔;所述筛板沿水平方向设置在所述内腔中,并将所述内腔分隔为上下布置的气体缓冲室和原料层;所述气体分布器设置在所述气体缓冲室内并通过管道与外部气源连接;所述排渣管将所述内腔与外界连通,并且所述排渣管上设置有开关阀。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述耐火砌筑结构的内腔呈倒锥形。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述筛板上设置有多个筛孔,并且所述多个筛孔中的每个筛孔均具有能够防止原料落下的孔径。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述低温氯化炉炉底装置还包括设置在筛板与所述内腔接触处并位于筛板下方的多个支撑板。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述气体分布器包括进气管和多个气嘴支管,其中,所述进气管与通过管道与外部气源连接,所述多个气嘴支管中的每个气嘴支管的进气端均与所述进气管连通,并且所述多个气嘴支管中的每个气嘴支管的出气方向与所述进气管中的气流方向成45°。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述低温氯化炉炉底装置还包括备用排渣管,所述备用排渣管穿过耐火砌筑结构的侧壁与所述内腔连通,并且所述备用排渣管设置有阀门。

在本实用新型的一个示例性实施例中,所述耐火砌筑结构还包括包裹其内壁的结构件,所述结构件上端通过法兰与低温氯化炉的炉体连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果包括以下效果中的至少一种:避免了低温氯化炉炉底存在的烧结、堵塞或穿孔等情况,便于安装、检修、拆除,并且结构紧凑合理,能够使供入炉底的气体(例如,氯气)均匀分布,从而减少了气体对炉底壁面的腐蚀,避免了炉底气体分布器与原料直接接触,能够促进低温氯化炉中低温氯化反应的顺行。

附图说明

通过下面结合附图进行的示例性描述,本实用新型的上述和其他目的及特点将会变得更加清楚,其中:

图1示出了根据本实用新型的一个示例性实施例的低温氯化炉炉底装置的结构示意图;

图2A示出了根据本实用新型示例性实施例的低温氯化炉炉底装置的筛板的示意图;

图2B示出了图2A的筛板中的筛孔布置情况的放大示意图;

图3A示出了根据本实用新型示例性实施例的低温氯化炉炉底装置的气体分布器的结构示意图;

图3B示出了图3A的气体分布器中的气嘴支管的局部放大示意图;

图4A和图4B分别示出了根据本实用新型示例性实施例的低温氯化炉炉底装置的用于支撑筛板的支撑板的主视透视图和俯视透视图。

附图标记说明:

1-法兰、2-结构件、3-备用排渣管、4-排渣管、5-筛板、6-支撑板、7-气体分布器、8耐火砌筑结构、A-气体缓冲室、B-原料层。

具体实施方式

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