[实用新型]一种化学合成装置有效
申请号: | 201220343357.6 | 申请日: | 2012-07-16 |
公开(公告)号: | CN202778472U | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 舒静;高彦华;邴国强 | 申请(专利权)人: | 东北石油大学 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B01J3/04 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 163318 黑龙江省*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学合成 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种化学反应装置,尤其涉及一种化学合成装置。
背景技术
在化学有机合成中,尤其是精细化学、药物化学等,反应温度和反应时间对反应产物的影响很大。不同反应温度、压力和催化剂下,反应产物种类和合成效率不同。要提高所需产品的合成产率和合成速度,需要严格控制合成条件,除原料配比外,最重要的是控制化学合成反应温度和压力。
现有的化学合成装置,部分用水浴加热、集成底板控制温度,这样可应用的温度范围有限,而且不能实现反应结束迅速冷却的要求;部分用水蒸气或其它加热方式,但没有相应的快速降温系统来维持温度恒定或在较窄的温度范围。为保证化学合成反应产物得率和合成效率,需要严格控制反应体系的温度、压强,需要反应装置能够快速升温和降温,快速升压和加压。
实用新型内容
为解决以上化学合成装置的缺陷,本实用新型的目的是提供一种简单、能够快速升温和降温,并且能精确控制反应压强的化学合成装置。
一种化学合成装置,包括反应釜、温度控制系统和压力控制系统,反应釜为不锈钢罐体,所述反应釜的顶部设有进料口,底部设有出料口;温度控制系统包括加热装置、冷却装置、温度显示装置,所述加热装置位于所述反应釜的外部,所述冷却装置包括有其内部通入冷却剂的冷却管道,所述冷却管道延伸到所述反应釜的内部,所述温度显示装置包括有温度检测机构和显示机构,所述温度检测机构位于所述反应釜内,所述显示机构位于反应釜外;压力控制系统包括真空泵、抽真空口、排气口和压力显示装置,所述排气口和所述抽真空口位于反应釜的顶部,所述真空泵通过所述抽真空口与所述反 应釜气体连通,所述压力显示装置包括有压力检测机构和压力显示机构,所述压力检测机构位于所述反应釜内,所述压力显示机构位于所述反应釜外。
优选的是,所述的化学合成装置,所述加热装置为电加热装置,位于所述反应釜的底部,且与所述反应釜之间设有石棉网夹层。
优选的是,所述的化学合成装置,所述冷却管道的形状为弯曲状。
优选的是,所述的化学合成装置,还包括:
搅拌装置,所述搅拌装置具有搅拌部件以及驱动所述搅拌部件旋转的驱动机构,所述搅拌部件延伸入所述反应釜内部。
优选的是,所述的化学合成装置,还包括:
催化剂放置装置,其设置于所述反应釜内,与所述反应釜可拆卸地连接。
优选的是,所述的化学合成装置,所述催化剂放置装置包括有一对相对设置的板体,所述一对板体之间形成一催化剂容纳空间,且所述一对板体上均设置有气体通孔。
优选的是,所述的化学合成装置,所述反应釜的顶部设置有人孔。
本实用新型的有益效果为:(1)采用底层加热套和双冷凝管装置,能够快速提高或降低反应温度,精确控制化学合成反应产物;(2)采用搅拌器和气体混合两种系统,使反应速度提高,合成效率也相应提高。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型包括反应釜、温度控制系统和压力控制系统,反应釜5为不锈钢罐体,所述反应釜的顶部设有进料口8,底部设有出料口13;温度控制系统包括加热装置1、冷却装置4、温度显示装置10,所述加热装置位于所述反应釜的外部,所述冷却装置包括有其内部通入冷却剂的冷却管道,所述冷却管道延伸到所述反应釜的内部,所述温度显示装置包括有温度检测机构和显示机构,所述温度检测机构位于所述反应釜内,所述显示机构位于反应釜外;压力控制系统包括真空泵、抽真空口11、排气口7和压 力显示装置6,所述排气口7和所述抽真空口11位于反应釜的顶部,所述真空泵通过所述抽真空口与所述反应釜气体连通,所述压力显示装置6包括有压力检测机构和压力显示机构,所述压力检测机构位于所述反应釜内,所述压力显示机构位于所述反应釜外。
所述加热装置为电加热装置,位于所述反应釜的底部,且与所述反应釜之间设有石棉网夹层。冷却管道的形状为蛇状冷却管道。还包括搅拌装置,所述搅拌装置具有搅拌部件以及驱动所述搅拌部件旋转的驱动机构,所述搅拌部件延伸入所述反应釜内部。
该化学合成装置还包括:催化剂放置装置,其设置于所述反应釜内,与所述反应釜可拆卸地连接。催化剂放置装置包括有一对相对设置的板体,所述一对板体之间形成一催化剂容纳空间,且所述一对板体上均设置有气体通孔。所述反应釜的顶部设置有人孔。
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