[实用新型]一种简易的无掩膜光刻机有效

专利信息
申请号: 201220309749.0 申请日: 2012-06-28
公开(公告)号: CN202735679U 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 袁根如;郝茂盛;张楠;李士涛;朱广敏;陈诚 申请(专利权)人: 上海蓝光科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L33/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 简易 无掩膜 光刻
【权利要求书】:

1.一种无掩膜光刻机,其特征在于,至少包括:

机体;

承载台,设置于所述机体中;

抽屉式承片板,滑动设置在所述承载台上,具有多个用于承载待光刻LED芯片的容置槽,所述容置槽内的容置空间与所述LED芯片的透明衬底外形相吻合,且所述LED芯片倒置于所述容置槽内;

光源系统,悬设于所述承载台上方,对倒置于所述抽屉式承片板容置槽内的LED芯片进行背面曝光作业。

2.根据权利要求1所述的无掩膜光刻机,其特征在于:所述光源系统还包括一用来控制光源的曝光时间和相对辐照强度的光源控制器。

3.根据权利要求1所述的无掩膜光刻机,其特征在于:所述承载台上设置有两列相对平行的滑轨,所述抽屉式承片板的相对两侧边设置有用于在所述滑轨内滑动的滑轮。

4.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述承载台上设置有两列相对平行的滑轨,所述抽屉式承片板的相对两侧边设置有用于在所述滑轨内滑动的滑块。

5.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述承载台上设置有两列相对平行的滑轨,所述抽屉式承片板的相对两侧边设置有用于在所述滑轨内滑动的滑槽。

6.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述光源系统的光源为专用紫外LED或高压汞灯。

7.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述机体内具有密闭空间,所述承载台及光源系统设置在所述密闭空间内。

8.根据权利要求1所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述抽屉式承片板具有第一限位部,所述承载台上具有对应所述第一限位部的第二限位部。

9.根据权利要求8所述的一种无掩膜光刻机,其特征在于:所述第一限位部为旋转固定于所述抽屉式承片板上的定位块,所述第二限位部为定位槽。

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