[实用新型]一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。

背景技术

近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器）以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置。

在TFT-LCD生产工艺过程中，需要采用掩膜板（mask）对基板进行掩膜曝光作业。掩膜板表面的清洁度直接影响掩膜曝光效果，而现有技术中，对掩膜板的清洁通常采用人工清洁的方式，这种方式清洁掩膜板不仅耗费的时间较长，并且掩膜板表面清洁的也不够干净，很难达到预期要求。另外，人工清洁掩膜板的方式很容易将掩膜板的表面划伤，对后续工艺作业造成一定的影响，进而影响最终产品的良率。

实用新型内容

（一）要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是提供一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备，以克服现有的采用人工方式对掩膜板进行清洁导致的清洁效果差、耗时长，且容易损伤掩膜板表面造成影响最终产品良率等缺陷。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型一方面提供一种掩膜板自动清洁系统，包括：

掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；

机械手，用于搬运所述掩膜板；

微粒检测装置，位于所述掩膜板存储装置的上方，用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置；

掩膜板清洁装置，位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室，所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板；

控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合；

电气提供装置，用于提供动力能源。

进一步地，所述掩膜板存储装置内部沿纵向方向相对设置有多个用于存储掩膜板盒的支撑柱，所述掩膜板盒内存放掩膜板。

进一步地，所述微粒检测装置包括位于掩膜板上表面和下表面的条形微粒扫描器，所述条形微粒扫描器位于所述微粒检测装置的入口方向。

进一步地，所述掩膜板清洁装置包括位于掩膜板上表面和下表面的风刀，所述风刀内置离子风发射端，向所述掩膜板的表面吹送离子风，所述风刀设置在远离所述微粒检测装置的入口方向的一侧。

进一步地，所述风刀与水平面呈30-60°夹角设置。

进一步地，所述掩膜板清洁装置还包括至少两个排气装置，所述排气装置分别安装在掩膜板上下表面所在的空间，所述排气装置远离风刀。

进一步地，所述排气装置为条形，且与水平面呈30-60°夹角设置。

进一步地，所述清洁腔室的底部和顶部分别设有静电除尘装置。

进一步地，所述控制装置通过可编程逻辑控制器集成，分块对掩膜板自动清洁系统中各装置进行控制

另一方面，本实用新型还提供一种曝光设备，包括上述的掩膜板自动清洁系统。

（三）有益效果

上述技术方案具有如下优点：本实用新型提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统结构示意图；

图2为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中掩膜板搬运过程示意图；

图3为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中微粒检测装置结构及微粒检测示意图；

图4为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中清洁装置风刀结构示意图；

图5为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中清洁过程中气流方向示意图；

图6为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中清洁腔室静电除尘装置结构示意图；

图7为本实用新型实施例掩膜板自动清洁系统中静电除尘装置安装位置及吸附微粒示意图。

其中：1：掩膜板存储装置；11：支撑柱；21：第一机械手；22：第二机械手；23：第三机械手；3微粒检测装置；31：条形微粒扫描器；4：掩膜板清洁装置；41：风刀；42：排气装置；43：静电除尘装置；5：掩膜板；A：掩膜板上表面；B：掩膜板下表面；6：掩膜板运输车。

具体实施方式