[实用新型]一种产水电阻率为18 MΩ·cm的超纯水制取装置有效

专利信息
申请号: 201220286075.7 申请日: 2012-06-18
公开(公告)号: CN202705153U 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 张建鹏;钟丽云;刘通;许嘉龙 申请(专利权)人: 上海问鼎环保科技有限公司;上海问鼎水处理工程有限公司
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 代理人: 叶克英
地址: 201416 上海市奉贤*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 水电 18 cm 超纯水 制取 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及纯水制取,特别是一种产水电阻率为18 MΩ·cm的超纯水制取装置。

背景技术

超纯水对许多工业工程非常重要,比如:半导体制造业和制药业等。超纯水是纯度极高的水,其电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上,纯水中只有H离子和OH离子参加导电,在25℃时超纯水的电阻率极限值接近于18.3MΩ·cm。而目前超纯水的制取工艺无法保证水质有极高的纯度,电离很难达到此电阻率。因此,亟待开发出一种新型的超纯水制取装置。

实用新型内容

本实用新型目的是提供一种处理装置简单,包括所有处理过程都自动进行,而且能自动记录超纯水制取全过程的装置。

为了实现上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:一种产水电阻率为18 MΩ·cm的超纯水制取装置,包括:PLC控制系统、加药系统,其特征在于,还包括顺序管路连接的进水端、换热器、自清洗过滤器、超滤系统、超滤水箱、一级反渗透系统、中间水箱、二级反渗透系统、渗透水箱、第一紫外杀菌灯、过滤器、EDI系统、超纯水箱、抛光混床、第二紫外杀菌灯和出水端。

所述加药系统包括但不限于絮凝药剂加药系统、杀菌剂加药系统、还原剂加药系统和阻垢剂加药系统。

所述换热器和自清洗过滤器之间的管路分别与絮凝药剂加药系统和杀菌剂加药系统管路连接,超滤系统和超滤水箱之间的管路分别与还原剂加药系统和阻垢剂加药系统管路连接。

所述进水端与换热器之间设有进水泵,超滤水箱与一级反渗透系统之间设有一级反渗透高压泵,中间水箱与二级反渗透系统之间设有二级反渗透高压泵,反渗透水箱和第一紫外杀菌灯之间设有EDI水泵,超纯水箱和抛光混床之间设有超纯水泵。

所述PLC控制系统分别与进水泵、超滤系统、一级反渗透系统、二级反渗透系统、一级反渗透高压泵、二级反渗透高压泵、EDI水泵、EDI系统、超纯水泵和加药系统的控制点连接。

本实用新型利用了全膜法技术,并利用PLC进行全自动化控制,可以快速、高效、节能地制取高纯水。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中:1-絮凝药剂加药系统,2-杀菌剂加药系统,3-还原剂加药系统,4-阻垢剂加药系统,5-进水泵,6-换热器,7-自清洗过滤器,8-超滤系统,9-超滤产水箱,10-一级反渗透高压泵,11-一级反渗透系统,12-中间水箱,13-二级反渗透高压泵,14-二级反渗透系统,15-反渗透水箱,16-EDI水泵,17-第一紫外杀菌灯,18-过滤器,19-EDI系统,20-超纯水箱,21-超纯水泵,22-抛光混床,23-第二紫外杀菌灯,24- PLC控制系统。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作详细说明。

图1中所示的是一种产水电阻率为18 MΩ·cm的超纯水制取装置,分为预处理系统、预脱盐系统和精脱盐处理系统。

所述预处理系统包括进水泵5、板式换热器6、自清洗过滤器7、超滤系统8、超滤水箱9、加药系统(絮凝药剂加药系统1、杀菌剂加药系统2、还原剂加药系统3和阻垢剂加药系统4),主要用于去除水中的悬浮物、胶体、有机物等,保证出水有机物含量及污染指数(SDI)等指标满足反渗透进水要求,并且防止浓水在反渗透膜的一侧结垢。

其中,板式换热器6,主要作用在于通过换热以提高出水的水温,从而为后续膜系统装置提供稳定的水温,保持相对稳定的产水通量,尤其在冬季水温低时对后续膜系统有充足的产水量是必要的保证措施。

自清洗过滤器7,初步拦截水体中的微小颗粒、悬浮物等杂质,保护超滤膜,确保其长期、稳定使用。

超滤系统8,用于除去水中的微粒、胶体、细菌、病毒、热源、蛋白质及大分子有机物,使水得以净化。

加药系统为控制水中微生物的生长、防止结垢等。

所述预脱盐系统包括一级反渗透高压泵10、一级反渗透系统11、中间水箱12、二级反渗透高压泵13、二级反渗透系统14和反渗透水箱15,主要用于去除水中各种溶解固形物及盐分。

所述精处理系统包括EDI水泵16、第一紫外杀菌灯17、过滤器18、EDI系统19、超纯水箱20、超纯水泵21、抛光混床22和第二紫外杀菌灯23,主要用于进一步去除水中各种溶解固形物及盐分。出水水质将完全达到并优于除盐水系统的水质要求。

其中,第一和第二紫外杀菌灯控制细菌总数,避免细菌对EDI系统的影响。

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