[实用新型]胡椒研磨器有效
| 申请号: | 201220221898.1 | 申请日: | 2012-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN202619457U | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
| 发明(设计)人: | 吴明峰 | 申请(专利权)人: | 瀛丽企业股份有限公司 |
| 主分类号: | A47J42/38 | 分类号: | A47J42/38 |
| 代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 张雅军 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 胡椒 研磨 | ||
1.一种胡椒研磨器,包含:一个界定出一个容装空间的容装单元,以及一个研磨单元,该研磨单元包括一个受该容装单元带动而可绕自身中心轴线转动的连动轴、一个可受该连动轴带动而转动的内研磨座,以及一个围绕该内研磨座并与该内研磨座共同界定出一个研磨空间的外研磨座,其特征在于,该胡椒研磨器还包含:一个弹性件、一个调整座,以及一个底座单元;该弹性件位于该内研磨座的上方,并向该内研磨座提供一个恒朝下的复位力量;该调整座包括一个位于该内研磨座的下方并可将该内研磨座往上顶推的顶推部,以及一个围绕该顶推部并具有一个朝下的调整面的调整围壁,该调整面具有至少一个斜面部,该斜面部具有间隔的一个高点与一个低点;该底座单元可相对转动地安装在该容装单元的底部,并包括一个向上突伸而抵接该斜面部的卡块组,该底座单元可相对该调整座转动,使该卡块组沿该斜面部移动于该高点与该低点之间,并使该调整座与该内研磨座相对该外研磨座上下移动而改变该研磨空间的大小。
2.根据权利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于:该容装单元包括一个导引座,该导引座包括一个围绕设置并位于该内研磨座的上方的导引围壁,该导引围壁具有一个自其底缘向上延伸的导槽,该调整座还包括一个自该调整围壁的表面突出并伸入该导槽中的导引块。
3.根据权利要求2所述的胡椒研磨器,其特征在于:该导引座还包括一个位于该导引围壁的上方的轴穿壁,该轴穿壁界定出一个供该连动轴穿伸的轴孔,该研磨单元还包括一个与该连动轴固定住并围绕该连动轴的抵压件,该抵压件位于该轴穿壁的下方,该弹性件围绕该连动轴地位于该抵压件与该内研磨座之间。
4.根据权利要求3所述的胡椒研磨器,其特征在于:该容装单元还包括一个组装在该调整座的上方的瓶体,以及一个可相对转动地安装在该瓶体的顶部的盖体,所述盖体连结该连动轴而可带动该连动轴转动。
5.根据权利要求4所述的胡椒研磨器,其特征在于:该导引座还包括一个位于该瓶体的下方的基壁、一个自该基壁朝上突出于该瓶体中并位于该轴穿壁的下方的固定壁,以及数个彼此间隔并连接该轴穿壁与该固定壁的连接条。
6.根据权利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于:该调整座的斜面部还具有两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽,该底座单元的卡块组包括一个可选择地卡合于所述定位槽的其中之一的卡块。
7.根据权利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于:该调整座的调整面具有两个彼此间隔的斜面部,以及两个连接在所述斜面部之间并上下延伸的挡面部,所述斜面部都绕同一方向而由上往下逐渐倾斜,而且所述斜面部都包括前述高点与前述低点,以及两个位于该高点与该低点之间并向上凹设的定位槽,该底座单元的卡块组包括两个分别对应所述斜面部的卡块,所述卡块分别卡合于相对应斜面部的所述定位槽的其中之一。
8.根据权利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于:该调整座的顶推部具有一个可供该连动轴的底部伸入的凹槽。
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