[实用新型]三坐标测试仪有效
申请号: | 201220154856.0 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN202599382U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 陆庆年 | 申请(专利权)人: | 苏州怡信光电科技有限公司 |
主分类号: | G01B21/00 | 分类号: | G01B21/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215129 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坐标 测试仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种三坐标测试仪,具体涉及一种具有倾斜设置的活动桥的三坐标测试仪。
背景技术
传统的三坐标测试仪为保证良好的导向,活动桥即横梁多采用的是矩形截面横梁,其截面尺寸都相当大,导致相应部件的质量增大,就出现这样的一个问题:质量大,导致移动部件惯量大,最终导致测量仪的测量精度降低。
实用新型内容
为解决现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种具有倾斜设置的活动桥的三坐标测试仪。
为了实现上述目标,本实用新型采用如下的技术方案:
一种三坐标测试仪,包括:用于放置测量物品的测量台面、用于在前述测量台面上行走的两个活动臂,其特征在于,还包括:固定连接在前述两个活动臂之间的活动桥、用于在前述活动桥上滑动的滑块组,前述活动桥整体倾斜设置并形成用于作为前述滑块组滑动的平面的主滑动平面,前述主滑动平面与水平面成45度角。
前述的三坐标测试仪,其特征在于,前述滑块组面向前述主滑动平面的位置设有多个均匀对称排列的主气浮块,前述主气浮块的喷气嘴的喷射方向垂直于前述主滑动平面。
前述的三坐标测试仪,其特征在于,前述滑块组对前述活动桥构成包围使前述滑块组套接在前述活动桥的外围。
前述的三坐标测试仪,其特征在于,前述活动桥形成有竖直的第二滑动平面和水平的第三滑动平面。
前述的三坐标测试仪,其特征在于,前述滑块组设有多个均匀对称排列的、分别对应前述第二滑动平面和第三滑动平面的水平分离气浮块和垂直分离气浮块,前述垂直分离气浮块和水平分离气浮块的喷气嘴的喷射方向分别垂直于前述竖直的第二滑动平面和水平的第三滑动平面。
本实用新型的有益之处在于:活动桥整体倾斜设置并形成主滑动平面,主滑动平面与水平面成45度角,减轻了移动部件的质量和惯量,提高了测量仪的测量精度;滑块组上设有多个均匀对称排列的气浮块,既减少了滑块组与活动桥之间的摩擦,又便于精确调节滑块组的位置。
附图说明
图1是本实用新型的三坐标测试仪的一个具体实施例中滑块组套接在活动桥外围的结构示意图;
图2是图1中的滑块组和活动桥在三坐标测试仪中的安装示意图;
图3是图2的局部放大示意图;
图中附图标记的含义:
1-测量台面,2-活动臂,3-活动桥,4-滑块组,51-主气浮块,52-垂直分离气浮块,53-水平分离气浮块,61-主滑动平面,62-第二滑动平面,63-第三滑动平面。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作具体的介绍。
参照图2和图3,本实用新型的三坐标测试仪,包括:用于放置测量物品的测量台面1、用于在测量台面1上行走的两个活动臂2,固定连接在两个活动臂2之间的活动桥3、用于在活动桥3上滑动的滑块组4。活动桥3整体倾斜设置并与水平面成一定度角。
参照图1,活动桥3形成有主滑动平面61、第二滑动平面62和第三滑动平面63。主滑动平面61用于作为滑块组4滑动的平面,为了便于调整滑块组4的位置,主滑动平面61与水平面成45度角;第二滑动平面62形成于竖直方向;第三滑动平面63形成于水平方向。
参照图1和图2,滑块组4套接在活动桥3的外围。滑块组4面向主滑动平面61的位置设有多个均匀对称排列的主气浮块51,主气浮块51的喷气嘴(未图示)的喷射方向垂直于主滑动平面61;滑块组4面向第二滑动平面62的位置设有多个均匀对称排列的垂直分离气浮块52,垂直分离气浮块52的喷气嘴(未图示)的喷射方向垂直于第二滑动平面62;滑块组4面向第三滑动平面63的位置设有多个均匀对称排列的水平分离气浮块53,水平分离气浮块53的喷气嘴(未图示)的喷射方向垂直于第三滑动平面63。
由于活动桥3的主滑动平面61与水平面成45度角,并且具有竖直的第二滑动平面62和水平的第三滑动平面63,依据力的合成与分解原理,气浮块的喷气嘴只需在分别垂直于主滑动平面61、第二滑动平面62和第三滑动平面63的三个方向上喷射气体,便可以使滑块组4保持平衡并且不与活动桥3发生接触,与传统的需要从四个方向喷射气体以维持滑块组4的平衡相比,不仅减少了气浮块的安装使用量,调节滑块组4的位置也更加简洁、方便,而且活动桥3的体积和质量有所减小,减轻了移动部件的惯量,提高了测量精度以及工作效率。
需要说明的是,上述实施例不以任何形式限制本实用新型,凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案,均落在本实用新型的保护范围内。
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