[实用新型]立式粉碎机有效

专利信息
申请号: 201220146883.3 申请日: 2012-04-09
公开(公告)号: CN202621230U 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 池田充;繁本康弘 申请(专利权)人: 宇部兴产机械株式会社
主分类号: B02C15/10 分类号: B02C15/10;B02C23/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 立式 粉碎机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及用于对高炉矿渣、电炉钢渣以及水泥熟料等原料进行微粉碎的立式粉碎机。

背景技术

作为粉碎矿渣或熟料等原料的装置,广泛采用立式粉碎机(也被称为立磨、立式辊磨)。立式粉碎机虽然能够高效地对原料进行微粉碎,但由于原料的特性或粉碎条件等各种原因,存在发生异常振动这样的问题。一直以来,不断寻求用于防止这样的异常振动的各种对策。

作为其中的一个对策,已知例如下述专利文献1所公开的立式粉碎机。该立式粉碎机构成为,将旋转自如的粉碎辊和辅助辊配置在旋转磨盘上,辅助辊的中心直径的尺寸比粉碎辊的中心直径的尺寸大。由此,利用辅助辊的宽幅部分将旋转磨盘上含有大量空气的原料层(粉碎层)啮入,一边排气一边缓慢地压紧,由此,能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。

专利文献1:日本特开2010-234219号公报

实用新型内容

本实用新型的目的在于,进一步改良上述现有技术,提供一种立式粉碎机,所述立式粉碎机能够固定地调整原料层厚,并且能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。

本实用新型的立式粉碎机的特征在于,所述立式粉碎机包括:圆筒状的溜槽,其用于供给新原料;漏斗状的锥体,其配置于所述溜槽的外周侧,用于供给内部循环原料;旋转磨盘,其具有中央区域和位于所述中央区域周围的磨辊滚动区域,新原料被从所述溜槽供给至所述中央区域,并且内部循环原料被从所述锥体供给至所述中央区域,并且该旋转磨盘通过旋转将所述各原料从所述中央区域引导至所述磨辊滚动区域;粉碎辊和辅助辊,其在被按压于所述磨辊滚动区域的状态下随着所述旋转磨盘的旋转而从动地在所述磨辊滚动区域滚动;挡料环,其设置于所述旋转磨盘的外周缘部上,用于堵住通过了所述旋转磨盘和各辊之间的所述各原料;以及刮板,其以位于所述磨辊滚动区域的内侧的方式被配置于所述中央区域的上方,并且使引导向所述磨辊滚动区域的所述各原料的层厚固定,所述刮板的两个端部经由支承轴安装并固定于所述锥体的下端部。

根据本实用新型的立式粉碎机,由于刮板以位于磨辊滚动区域内侧的方式经由支承轴被安装并固定于中央区域上方的锥体的下端部,因此,能够防止原料堆积或附着在旋转磨盘上,能够使原料层厚固定,并且,能够防止堵塞溜槽,从而能够高效地将原料引导至粉碎辊和辅助辊。而且,能够减小由原料层引起的作用于刮板和旋转磨盘的摩擦力,从而能够降低或防止在立式粉碎机中产生的噪音和振动。而且,即使在磨辊滚动区域上,也能够利用辅助辊使原料层厚固定,因此,能够提高粉碎效率。

在本实用新型的一个实施方式中,所述溜槽是从立式粉碎机的上部朝向旋转磨盘中央沿垂直方向延伸的溜槽。

而且,在将所述旋转磨盘的直径设定为D的情况下,从所述溜槽的下端面至所述旋转磨盘的上表面的距离H1被设定为满足H1=D×(0.1~0.2)[mm]。

而且,在本实用新型的另一个实施方式中,在将所述旋转磨盘的直径设定为D的情况下,所述刮板的高度H2被设定为满足H2=D×(0.015~0.02)[mm],在将所述旋转磨盘与所述刮板之间的高度设定为h的情况下,从所述旋转磨盘的上表面至所述刮板的上表面的距离H3被设定为H2+h[mm]。

在本实用新型的另一实施方式中,以所述粉碎辊的单位投影面积计,施加至所述粉碎辊的载荷被设定为9~12kg/cm2,以所述辅助辊的单位投影面积计,施加至所述辅助辊的载荷被设定为2~5kg/cm2

在本实用新型的另一实施方式中,所述挡料环构成为能够进行高度调整。

根据本实用新型,能够固定地调整原料层厚,并且能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。

附图说明

图1是示出本实用新型的一个实施方式的立式粉碎机的整体结构的图。

图2是图1所示的立式粉碎机的一部分的剖视图。

图3是图1所示的立式粉碎机的一部分的放大图。

图4是示出旋转磨盘速度与动摩擦系数之间的相关关系的图。

图5是示出辅助辊接触压力与表观摩擦系数之间的相关关系的图。

标号说明:

1:立式粉碎机;

3:马达;

5:减速机;

7:旋转磨盘;

9:壳体;

11:中央区域;

13:磨辊滚动区域;

15:刮板;

17:支承轴;

18:锥体;

19:溜槽;

21:粉碎辊;

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