[实用新型]一种研磨抛光机的研磨液滴加装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体集成电路及其制造领域，尤其涉及一种研磨抛光机的研磨液滴加装置。

背景技术

在半导体工艺中，对于半导体产品失效的分析，尤其是对PFA的分析，需要对样品研磨到需要观察的工艺制备层，因此需要对样品进行研磨，而对于一些手动的研磨仪器，如Metprep精密抛光机，需要一次性倒入一定量研磨液再进行研磨，大部分的研磨液会因为离心力向研磨垫四周输送，实际被利用的研磨液只占全部消耗的研磨液的25%以下，即造成大部分的研磨液都被直接浪费掉，且会导致研磨速率的不均匀。

因此如何提高研磨液的利用效率，使样品保持均匀的研磨速率成为半导体产品失效的分析中提高研磨工作效率的关键。

实用新型内容

本实用新型公开了一种研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，包括底座、瓶体和滴加头，所述瓶体固定设置在底座上，所述滴加头套设在瓶口上。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述底座为双排支架，包括前支架和后支架。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述后支架的高度可调节。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述瓶体瓶口部分设置在前支架上。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述前支架的半径小于所述瓶体半径。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述滴加头包括一活塞。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述底座的材质为不锈钢。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述瓶体的材质为高密度聚乙烯。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述瓶体为研磨液自带的瓶体，其底部半径为3cm，高为15cm。

上述的研磨抛光机的研磨液滴加装置，其中，所述活塞的材质为聚四氟乙烯。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型提出一种研磨抛光机的研磨液滴加装置，通过将研磨液盛放在塑料瓶体内且置于可调节高度的金属底座上， 由于金属底座的位置可自由摆放所以能方便调节研磨液的滴加位置，并通过调节滴加头上的活塞来调节研磨液的滴加速率，从而避免一次性加入过多研磨液而导致研磨液的浪费，同时也可以通过控制研磨液的滴加速度，来保持稳定的研磨速率，使样品更加平整，提高研磨效率。

附图说明

图1是本实用新型一种研磨抛光机的研磨液滴加装置的结构示意图；

图2是本实用新型一种研磨抛光机的研磨液滴加装置中滴加头的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明：

图1是本实用新型一种研磨抛光机的研磨液滴加装置的结构示意图；

图2是本实用新型一种研磨抛光机的研磨液滴加装置中滴加头的结构示意图。

如图1-2所示，在金属底座1上固定设置高密度聚乙烯瓶体2，并在瓶体2的瓶口上套设滴加头3；其中，底座1为双排支架，包括前支架11和后支架12，瓶体2的瓶口部分设置在前支架11上，以保持放置时瓶体2和底座1的稳定性，且后支架12的高度能够上下调整，以调节放置其上瓶体2的倾斜角度，而前支架11的半径小于瓶体2的半径，预防瓶体倾斜时滑落。

进一步的，滴加头3包括活塞31，通过活塞31来调节瓶体2内液体流出的速度。

其中，底座1的材质为不锈钢，活塞31的材质为聚四氟乙烯，瓶体2为研磨液自带的瓶体，其底部半径为3cm，高为15cm。

具体的，将研磨液倒进瓶体2中，套设上滴加头3后，将瓶体2的瓶口部分靠近前支架11固定设置在底座1上，然后移动底座1至适宜的位置，并通过调节后支架12的高度调节瓶体2的倾斜度，通过活塞31控制滴加头3滴加研磨液的速率，进行稳定速率的研磨工艺。

综上所述，由于采用了上述技术方案，通过将研磨液盛放在塑料瓶体内且置于可调节高度的金属底座上，由于金属底座的位置可自由摆放所以能方便调节研磨液的滴加位置，并通过调节滴加头上的活塞来调节研磨液的滴加速率，从而避免一次性加入过多研磨液而导致研磨液的浪费，同时也可以通过控制研磨液的滴加速度，来保持稳定的研磨速率，使样品更加平整，提高研磨效率；且制作工艺简单，制作成本较低，便于操作。

通过说明和附图，给出了具体实施方式的特定结构的典型实施例，基于本实用新型精神，还可作其他的转换。尽管上述实用新型提出了现有的较佳实施例，然而，这些内容并不作为局限。

对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本实用新型的真实意图和范围的全部变化和修正。在权利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容，都应认为仍属本实用新型的意图和范围内。