[实用新型]由多片玻化砖拼接成的装饰结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于壁板或地板的装饰结构，，尤其是涉及一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，特别是玻化抛光砖。

背景技术

玻化砖的色调高贵、质感优雅、性能稳定，强度高、耐磨、吸水率低、耐酸碱、色差小。这种产品不含氡气，各种理化性能比较稳定，符合环境保护发展的要求，是替代天然石材较好的瓷制产品。

关于玻化砖的现有技术，可参考例如中国专利公告号CN202117268U的说明。而对于现有玻化砖的缺点，可参考例如中国专利公开号CN1153751A或是美国专利US5,989,636的说明。

此外，现有技术已有使用可溶性无机金属盐的溶剂型釉料而通过丝网印刷的玻化砖制造方法，但如中国专利公开号CN1153751A所述，丝网印刷具有图案色泽不清晰，不鲜艳的问题，对所要形成的条纹无法准确的控制，特别是在多片玻化砖上的条纹需要彼此对准的情况。

另一方面，中国专利公开号CN1153751A或是美国专利US5,989,636本身建议采用含有色素的瓷粉(色粉)烧结，但这种作法也存在有精细度不够的问题，对所要形成的条纹也无法准确的控制，特别是在多片玻化砖上的条纹需要彼此对准的情况。

实用新型内容

本实用新型的目的在于为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种产品纹理立体感强，纹理富于变化、质量好、良品率高、仿真性强的由多片玻化砖拼接成而用于壁板或地板的装饰结构，其中玻化砖可特别是玻化抛光砖。

本实用新型另一目的在于喷墨打印釉料渗透的厚度在玻化砖或玻化抛光砖通过修平或抛光的工艺程序后，仍至少保持有0.5毫米，因此釉料分布所形成的条纹或图案可抗磨损，当使用在户外地板的装饰结构时，更显其优势。

本实用新型另一目的在于多片玻化砖或玻化抛光砖上所要形成的条纹是通过喷墨打印釉料而形成，因此可提供精细准确的控制，使得多片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案在拼接后能够在视觉上连续，甚至共同展现一完整连续的图案分布。相较于现有技术，当户外地板的装饰结构需利用玻化砖展现大型完整图案时，本实用新型即提供一良好的解决方案。

需说明的是，上述本实用新型的优势并不需要同时显现。

为达上述目的，根据本实用新型的实施例：一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，该装饰结构由多片玻化砖彼此对准拼接成，每一玻化砖或玻化抛光砖的表面上设有喷墨打印釉料，且所述的表面通过修平而形成一修平表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平表面向下至少0.5毫米。

所述的玻化砖为玻化抛光砖，所述的表面通过修平与抛光而形成一修平与抛光表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平与抛光表面向下至少0.5毫米。

所述的装饰结构由至少12片玻化砖拼接而成。

所述的装饰结构的面积至少为7.68平方米。

所述的多片玻化砖中至少二相邻的玻化砖表面上的釉料都具有一第一分布。

所述的多片玻化砖中至少一玻化砖表面上的釉料具有一第一分布，而与其邻接的玻化砖的表面上的釉料具有一第二分布。

所述的第一分布与所述的第二分布组成一连续分布。

所述的多片玻化砖每一片玻化砖表面上的釉料的分布共同组成一连续分布。

选择性地，所述的多片玻化砖中至少二相邻的玻化砖表面上的釉料皆具有一第一分布，因此本实用新型可应用于每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都相同的装饰结构。

选择性地，所述的多片玻化砖中至少一玻化砖表面上的釉料具有一第一分布，而与其邻接的玻化砖的表面上的釉料具有不同于第一分布的一第二分布，因此本实用新型可应用于每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都不同的装饰结构。

选择性地，所述的第一分布与所述的第二分布组成一连续分布。选择性地，所述的多片玻化砖每一片玻化砖表面上的釉料的分布共同组成一连续分布。因此本实用新型可应用于利用每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布共同组成一完整图案的装饰结构。

本实用新型的优点在于，其装饰结构使用性强、其釉料分布所形成的条纹或图案可抗磨损，并美观且有利于制造。

参考以下说明及所附权利要求范围或利用如下文所提的本实用新型的实施方式，即可更加明了本实用新型的这些特色及优点。

附图说明