[实用新型]共用一个射频源的多等离子体装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及射频技术领域的一种共用一个射频源的多等离子体装置。 

背景技术

射频高功率应用中，终端负载，比如天线、射频等离子腔体、射频加热设备等应用。他们因型号或者使用环境各不相同而呈现不同的负载复阻抗。这样通常与射频功率源的输出阻抗不批配(一般合格的射频功率源输出阻抗为50欧姆)。射频源与匹配器的单一对应使用，在实验室中。单一的，小型设备是没有太大问题。中型，大型工厂。或者现代化的生产线中就会出现功率不均匀，有时严重影响产品的品质。从节能上也造成一定的浪费。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种共用一个射频源的多等离子体装置。 

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现： 

共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源，所述射频源通过导线连接有射频源分配器，所述射频源分配器通过导线连接有若干匹配器，每个所述匹配器连接有电极。 

进一步的，设置有两个所述匹配器。 

本实用新型的有益效果是： 

(1)简化了结构，降低了成本； 

(2)避免了因射频源相互干扰过程中形成锯齿状的波形的缺陷，可以持续地稳定工作；

(3)具有能长时间保证等离子体的密度，实现连续化生产； 

(4)既能保证等离子体的密度，也能保证等离子体的均匀度。 

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。 

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中： 

图1本实用新型连接关系示意图。 

图中标号说明：1、射频源，2、射频源分配器，3、匹配器，5、电极。 

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本实用新型。 

参照图1所示，共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源1，所述射频源1通过导线连接有射频源分配器2，所述射频源分配器2通过导线连接有若干匹配器3，每个所述匹配器3连接有电极5。 

进一步的，设置有两个所述匹配器3。 

所属的装置为基于单片机的模块化系统，包括负载阻抗实时独立监测模块、W型匹配网络及变量自动控制系统，其中所述负载阻抗实时监测模块包含双定向耦合和信号调理电路，用于实时性测量 并提供单片机进行负载阻抗计算的原参数，所述W型匹配网络为由至少4个可调电容构成的原件W型匹配系统。 

其中，射频源1和射频源分配器2、匹配器3的装置。在射频源1与匹配器3之间是射频源分配器2。电极5在的载体(设备外壳)应接地E.该装置为基于单片机(也称作微处理器，以下均以英文简称MPU。没有图示)的模块化系统，包括负载阻抗实时监测总路。射频源分配器可以均匀性的把能量输送给匹配器3实现均一性。在能量许可的情况下，也可以把根据生产工艺需求，调整射频源分配器的相应参数，实行差额的能量传送。差额的能量传送单一体现是阶梯状，当然阶梯的差值可以通过分配器进行调整。如果，用于不同的产线、产品、或者不同的工艺。在保证功率许可的范围内，可实现各匹配器的独立性校正。 

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。