[发明专利]不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳

权利要求书

1.一种不锈钢表面处理方法，包括如下步骤：

提供不锈钢基体；

通过多弧离子镀在不锈钢基体表面沉积打底层，该打底层为钛金属层；

通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为铝金属层；

通过磁控溅射方法在所述过渡层上沉积铝膜；

对该形成有打底层、过渡层及铝膜的不锈钢基体进行阳极氧化处理，以使该过渡层及铝膜被氧化而形成多孔的阳极氧化膜；

对该经阳极氧化处理的不锈钢基体进行着色处理并封孔，以使不锈钢基体表面获得所需的颜色。

2.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该打底层、过渡层及铝膜是在同一真空镀膜设备中进行，该真空镀膜设备包括真空室、位于真空室内的转架、用以对真空室抽真空的真空抽气系统、以及若干个弧源装置。

3.如权利要求2所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该打底层时，将若干个钛靶置于真空镀膜设备的弧源位置上，将不锈钢基体固定于所述转架上，该真空室被抽真空至3×10^－3Pa-8×10^－3Pa后，向真空室内充入惰性气体，使真空室内压力为0.1Pa-0.8Pa，调节真空室内温度为90℃-105℃，对所述钛靶施加200V-300V的负偏压，设置偏压电源的占空比为40-50％，开启所述钛靶的电源，并调节钛靶电压为15V-30V，电流为50A-80A，在不锈钢基体上沉积该打底层，沉积时间为10-25分钟。

4.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该过渡层时，将若干个铝靶置于该真空镀膜设备的弧源位置上，将形成有所述打底层的不锈钢基体固定于所述转架上，该真空室被抽真空至3×10^－3Pa-8×10^－3Pa后，向真空室充入惰性气体，使真空室内压力为0.1 Pa-0.9Pa，调节真空室内温度为90℃-115℃，对所述铝靶施加200V的负偏压，设置偏压电源的占空比为45％，开启所述铝靶的电源，并调节铝靶电压为15V-35V，电流为40A-70A，在打底层上沉积该过渡层，沉积时间为25-60分钟。

5.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该铝膜时，于真空室中设置若干个磁控铝靶，将形成有所述打底层及过渡层的不锈钢基体固定于所述转架上，该真空室被抽真空至3×10^－3Pa-8×10^－3Pa后，向真空室充入惰性气体，使真空室内压力为0.1Pa-0.9Pa，调节真空室内温度为120℃-130℃，对所述磁控铝靶施加250V的负偏压，设置偏压电源的占空比为40％，开启所述磁控铝靶的电源，并调节电源功率为5kW-6kW，对不锈钢基体溅射50-70分钟，以于所述过渡层表面形成所述铝膜。

6.如权利要求4所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：所述阳极氧化处理是以不锈钢基体为阳极，不锈钢片为阴极，以硫酸溶液为电解液；硫酸浓度为190g/L-210g/L，电解液温度为8℃-13℃，采用恒电压模式，恒定电压为13V，处理时间为10min-15min。

7.一种外壳，包括不锈钢基体，其特征在于：该外壳还包括形成于该不锈钢基体表面的打底层及形成于该打底层表面的铝阳极氧化膜，该打底层为钛金属层。

8.如权利要求7所述的外壳，其特征在于：该打底层的厚度为1.5μm-2.5μm。

9.如权利要求7所述的外壳，其特征在于：该铝阳极氧化膜的厚度为18μm-25μm。