[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，用于对涂胶基底进行曝光，其特征在于，包括照明单元、至少两个空间光调制器、运动机构、投影物镜、工件台以及控制单元，所述至少两个空间光调制器分别安装于所述运动机构上，所述空间光调制器、所述运动机构以及所述工件台分别由所述控制单元控制，载有所述涂胶基底的所述工件台在所述控制单元的控制下运动到待曝光位置，所述运动机构在所述控制单元的控制下将所述至少两个空间光调制器依次调整至所述投影物镜的物面进行曝光，每个空间光调制器在所述控制单元的控制下依次进行数据载入阶段、器件重置阶段和图形显示阶段，所述控制单元控制各空间调制器同时进行上述任一阶段。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述运动机构为正多棱柱形结构，所述空间光调制器的数量等于所述正多棱柱形结构的柱面数，所述空间光调制器分别安装于所述正多棱柱形结构的柱面，所述正多棱柱形结构能够绕自身的中心轴转动。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述运动机构是平面结构，所述至少两个空间光调制器沿扫描方向间隔设置于所述平面结构上。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述运动机构是转盘结构，所述至少两个空间光调制器绕所述转盘结构的圆心分布于所述转盘结构上。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述至少两个空间光调制器绕所述转盘结构的圆心均匀分布于所述转盘结构上。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括光源，所述光源是汞灯或激光二极管或连续激光器或脉冲激光器。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述空间光调制器是数字微镜阵列。

8.一种曝光方法，其特征在于，采用如权利要求1～7中任意一项所述的曝光装置，包括如下步骤：

步骤1，工件台在控制单元的控制下运动，使得涂胶基底到达待曝光位置；

步骤2，所述至少两个空间光调制器在控制单元的控制下处于图形显示阶段、器件重置阶段和数据载入阶段中任一的阶段，使得下一次曝光所需的空间光调制器处于图形显示阶段；

步骤3，运动机构在所述控制单元的控制下，将下一次曝光所需的空间光调制器调整到所述投影物镜的物面并完成此次曝光；

步骤4，重复上述步骤，直至完成整个涂胶基底的曝光。