[发明专利]一种全反射靶的制造方法

权利要求书

1.一种全发射靶的制造方法，其特征在于：使用冲压模具对反射膜和底靶分别采用特定的步骤冲压成形；反射膜冲压模具由反射膜上模、共用下模、上压环、螺钉等零件组成；底靶冲压模具由底靶上模、共用下模、上压环、下压环、垫片、螺钉等零件组成；

使用反射膜冲压模具冲压反射膜的具体步骤如下：

（1）0.1mm厚的纯铜裁剪出10块130mm×130mm尺寸的铜片；

（2）根据共用下模的结构，每块铜片在模具定位孔对应的位置打孔，孔径要保持一致；

（3）铜片一起放到控温箱式炉中，加热到650℃，恒温1小时，保持受热均匀；

（4）取出铜片浸入水中冷却，此时铜片仍然很软；

（5）铜片固定到下模上，上模慢慢下压，压力增至1吨，保持1小时；

（6）取下上模，拿住成型铜片边沿取出铜片，沿齿印修剪出带沿的反射膜；

（7）反射膜放入箱式炉加热到450℃，恒温1小时，然后再自然冷却10小时，待铜皮变硬，得到所需反射膜；

使用底靶冲压模具冲压底靶的具体步骤如下：

（1）0.7mm厚的黄铜裁剪出5块150×150mm尺寸的铜片；

（2）根据下模的结构，每块黄铜片在模具定位孔对应的位置打孔，孔径要保持一致；

（3）铜片一起放到控温箱式炉中，加温到650℃，恒温1小时，保持受热均匀，然后再自然冷却10小时，此时黄铜片很软；

（4）铜片固定到下模上，上模慢慢往下压，压力增至1吨，保持1小时；

（5）取下上模，拿住成型黄铜片边沿取出黄铜片，沿齿印修剪出带沿的黄铜底靶，此时黄铜片仍然很软；

（6）底靶放入箱式炉加热到450℃，恒温1小时；

（7）取出底靶，完全浸入水中冷却，待黄铜皮变硬，得到所需底靶；

最后用铅锡焊料将反射膜和底靶焊接到一起，就组成全反射靶。

2.根据权利要求1所述的一种全发射靶的制造方法，其特征在于：所述反射膜冲压模具的共用下模上有一个圆环状凹槽，上压环上对应位置有一个圆环状凸起，使用的时候通过螺钉二者可以把0.1mm厚的铜质毛坯压紧。

3.根据权利要求1所述的一种全发射靶的制造方法，其特征在于：所述底靶冲压模具的下压环上有圆环状凹槽，上压环上对应位置有一个圆环状凸起，共用下模上圆周均布8个M6螺纹孔，下压环上圆周均布8个M6螺纹孔与8个柱孔，上压环对应位置圆周均布8个柱孔，使用的时候先将下压环用螺钉固定在共用下模上，将0.7mm厚铜质毛坯放在下压环上，再用上压环压紧，用螺钉固定住。