[发明专利]光纤镀膜工艺

权利要求书

1.一种光纤镀膜工艺，其特征在于：包括如下步骤：1）在硅材质的结构体表面设置光纤槽，光纤槽形状与光纤外形匹配；所述硅材质的结构体形成固定板（3）；

2）将光纤上需要镀膜的区段范围内的光纤包层剥掉，得到由裸芯段（1-1）和包层段（1-2）组成的光纤；

3）将光纤上的包层段（1-2）设置于固定板（3）上的光纤槽内，裸芯段（1-1）裸露在固定板（3）外；在光纤槽中充注正性光刻胶，用压板将光纤槽的开口处封闭；

4）将由光纤、固定板（3）和压板（2）三者所形成的结构体置于烘箱内进行烘烤，待正性光刻胶固结后，光纤、固定板（3）和压板（2）三者即被正性光刻胶粘结在一起形成整体结构；

5）用锡箔或铝箔将裸露在固定板（3）外的包层段（1-2）全部包裹，裹覆在包层段（1-2）外的锡箔或铝箔即形成包裹层；

6）对包裹层和裸芯段（1-1）表面进行清洗，去除粘附在表面的杂质微粒；

7）将固定板（3）装夹在普通压针式夹具上，采用普通光学镀膜机在裸芯段（1-1）表面镀制所需膜层；

8）镀膜操作结束后，用丙酮溶液除去正性光刻胶，拆下固定板（3）和压板（3），撕下包裹层，取出光纤备用。

2.根据权利要求1所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：步骤2）中采用热剥钳将光纤包层剥掉。

3.根据权利要求1所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：步骤6）中，对包裹层表面进行清洗时，采用烘烤手段除去包裹层表面附着的水；对裸芯段（1-1）表面进行清洗时，先用酒精将裸芯段（1-1）表面擦拭干净，然后用氮气枪吹干，然后采用低能离子束清洗设备对裸芯段（1-1）表面进行清洗。

4.根据权利要求1所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：所述光纤槽的横截面为V形。

5.根据权利要求1所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：所述光纤槽为多个，多个光纤槽平行地设置于固定板（3）上，多根光纤一一对应地设置在多个光纤槽中。

6.根据权利要求5所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：所述多根光纤，其裸芯段（1-1）的长度满足：多根光纤上的裸芯段（1-1）互不接触。

7.根据权利要求1所述的光纤镀膜工艺，其特征在于：所述压板（3）为玻璃片或硅材质的板状结构体。