[发明专利]多层构造的抗溶剂型乙烯基聚合物及其合成方法和用途有效
申请号: | 201210561379.4 | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN103881025A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 张林;孔祥丽;高峰 | 申请(专利权)人: | 乐凯华光印刷科技有限公司 |
主分类号: | C08F222/40 | 分类号: | C08F222/40;C08F220/50;C08F220/06;C08F220/14;C08F220/58;C08F220/44;C08F220/18;C08F2/24;G03F7/004 |
代理公司: | 郑州中原专利事务所有限公司 41109 | 代理人: | 霍彦伟;孙诗雨 |
地址: | 473003 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 构造 溶剂 乙烯基 聚合物 及其 合成 方法 用途 | ||
1.一种多层构造的抗溶剂型乙烯基聚合物,其特征在于,它是含有如下结构单元的乙烯基多元共聚物:
A:具有碱溶性的酰胺类结构单元,其结构式如下:
式中R1表示-H或–CH3,X1表示单键或2价的有机键基,表示-H或-CH3,R2表示可具有氢原子或置换基的1~12个碳原子的烷基、环烷基、芳基或芳烷基。
2.B:具有碱溶性的马来酰亚胺类的结构单元,其结构式如下:
式中Y表示具有酸性氢原子的基团
C:具有丙烯酸酯类的结构单元,其结构式如下:
式中R3表示-H或–CH3,R4表示可具有氢原子或置换基的1~12个碳原子的烷基、环烷基、芳基或芳烷基, R5表示可具有氢原子或置换基的1~12个碳原子的烷基、环烷基、芳基或芳烷基 ;
D:烯腈类结构单元,其结构式如下:
式中R6表示-H或–CH3,R7表示可具有氢原子或置换基的1~12个碳原子的烷基、环烷基、芳基或芳烷基;
E:丙烯酸类结构单元,其结构式如下:
式中R3表示-H或–CH3,R4表示可具有氢原子或置换基的1~12个碳原子的烷基、环烷基、芳基或芳烷基。
3.根据权利要求1所述的多层构造的抗溶剂型乙烯基聚合物,其特征在于:所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物的重量平均分子量为3000-20万,数均分子量为1500-2万,分散度为1.1-10;结构式A所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为0.5-50%;结构式B所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为10-80%;结构式C所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为0.5-40%;结构式D所示的丙烯酸酯类的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为10-50%;结构式E所示的丙烯酸类的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为0.5-30%。
4.根据权利要求2所述的多层构造的抗溶剂型乙烯基聚合物,其特征在于:所述的多层抗溶剂型乙烯基聚合物的重量平均分子量为2-4万,数均分子量为1500-4000,分散度为1.1-10;结构式A所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为20-30%;结构式B所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为20-40%;结构式C所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为10-20%;结构式D所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为20-30%;结构式E所示的结构单元在乙烯基聚合物中的质量百分含量为4-10%。
5.根据权利要求1所述的多层构造的抗溶剂型乙烯基聚合物的合成方法,其特征在于:该聚合物采用核壳乳液共聚的方法合成,颗粒以离散的乳液颗粒形态存在。
6.根据权利要求4所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物的合成方法,其特征在于:反应溶剂采用水和甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇等醇类的一种或几种的混合物。
7.根据权利要求4所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物的合成方法,其特征在于:反应催化剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈,过氧化苯甲酰,叔丁基过氧化氢,过氧化苯甲酸叔丁酯等偶氮类或有机过氧化物中的一种或几种。
8.根据权利要求4所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物的合成方法,其特征在于:反应乳化剂为二辛基琥珀酸纳、烷基苯磺酸钠等乳化剂。
9.根据权利要求4所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物的合成方法,其特征在于:该聚合为分段聚合,先将一种或几种单体溶解于溶剂中,加入乳化剂,形成乳液,加热搅拌,进行聚合形成种子,然后将剩余全部或几种单体溶于溶剂中,全部或分多次滴加进乳液中,进行聚合,从而形成多层结构的以乳液离散形态存在的高分子聚合颗粒。
10.根据权利要求4所述的多层构造抗溶剂型乙烯基聚合物在热敏阳图CTP版中的应用,其特征在于:含有该乙烯基聚合物的热敏阳图CTP版,可显著提高CTP版的耐溶剂性、耐磨性、抗划伤性及耐印率,尤其是使用UV油墨时,可显著提高其耐印率。
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