[发明专利]一种气体分析仪样气室装置有效

专利信息
申请号: 201210555529.0 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103884655A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 韩敏艳;骆德全;郁良;周欣 申请(专利权)人: 北京大方科技有限责任公司
主分类号: G01N21/15 分类号: G01N21/15
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波
地址: 100875 北京市海淀区学*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 气体 分析 仪样气室 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及气体分析技术领域,特别涉及一种气体分析仪样气室装置。

背景技术

在煤矿、石油化工、冶金和环保等行业,随着人们对气体检测的要求越来越高,测量技术与设备越来越受到人们的重视。近些年来,光学测量技术特别是可调谐激光吸收光谱技术得到了迅猛的发展,已经在众多行业中成功应用。但是,由于工业现场中的测量环境通常比较恶劣,使用一段时间后,分析仪内部的光学部件容易受到污染,严重影响测量的精度和分析仪的使用性能。目前,传统的维护方式是将分析仪发回生产厂家,由生产厂家进行光学器件的清理和维护,但是,这种维护方式需要的周期较长,影响使用者的正常工作。鉴于上述问题,一些公司开发了结构简单的样气室,其可以在现场拆开,对光学器件进行清理。但是,完成清理后,将光学器件安装回去后,还需要进行光路的重新调节,因此,这种方式仅局限于光路简单的样气室,例如,光路发射端与接收端为对射或单次反射的情况,而对于光路复杂的情况,则无法实现正常维护。

因此,如何提供一种气体分析仪样气室装置,以便于使用者对样气室进行维护,是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种气体分析仪样气室装置,以便于使用者对样气室进行维护。

为解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:

一种气体分析仪样气室装置,包括具有光学器件的样气室管,其还包括开设在所述样气室管上的维护窗口和用于密封所述维护窗口的可拆卸的密封板。

优选地,上述的装置中,所述维护窗口为两个,且分布在所述样气室管的两端。

优选地,上述的装置中,所述维护窗口为矩形。

优选地,上述的装置中,所述密封板为可透视的密封板。

优选地,上述的装置中,还包括设置在所述密封板和所述维护窗口之间的密封件。

优选地,上述的装置中,所述密封件为密封垫。

优选地,上述的装置中,所述密封板与所述样气室管通过紧固件相连。

从上述的技术方案可以看出,本发明提供了一种气体分析仪样气室装置,包括具有光学器件的样气室管,还包括开设在样气室管上的维护窗口和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板。应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置,当其内部的光学器件被污染时,可通过拆卸密封板使得维护窗口打开,操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式,因此可有效减少清理时间,且便于操作者的维护。

附图说明

图1为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置的剖视图;

图2为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置的结构示意图;

图3为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置外部爆炸图;

图4为本发明实施例提供的原位式气体分析仪样气室装置的剖视图;

图5为本发明实施例提供的单次反射气体分析仪样气室装置的剖视图;

图6为本发明实施例提供的单次反射气体分析仪样气室装置的另一种结构的剖视图;

图7为本发明实施例提供的多次反射气体分析仪样气室装置的剖视图;

图8为本发明实施例提供的另一种形状的维护窗口的结构示意图。

具体实施方式

本发明核心是提供一种气体分析仪样气室装置,以便于使用者对样气室进行维护。

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明。

请参考图1-图3所示,本发明公开了一种气体分析仪样气室装置,包括具有光学器件的样气室管2,还包括开设在样气室管2上的维护窗口(图中未标出)和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板1。

应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置,当其内部的光学器件被污染时,可通过拆卸密封板1使得维护窗口打开,操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式,因此可有效减少清理时间,且便于操作者的维护。

具体的实施例中,将维护窗口设置为两个,且分布在样气室管2的两端。在实际生产情况下,由于气体分析仪的光学发射端6和光学接收端4的布置方式可为对射安装方式,即两者分布在样气室管2的两侧,并通过设置在样气室两侧的第一光学窗口5将光束射入到样气室内,通过第二光学窗口3将光束射出样气室,因此,为了能够对两侧的光学器件都实现清理,优选地实施例中,设置了两个维护窗口。操作者可根据实际情况,对不同的光学器件进行维护。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大方科技有限责任公司,未经北京大方科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210555529.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top