[发明专利]硬质涂层膜及制造硬质涂层膜的方法无效
| 申请号： | 201210548497.1 | 申请日： | 2012-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN103173722A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | J·P·迪巴蒂斯塔;Y·杨 | 申请（专利权）人： | 达利传统技艺公司 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李连涛;李炳爱 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硬质 涂层 制造 方法 | ||
1.硬质涂层膜，该膜包含：
透明聚合物膜基底；
形成在膜基底表面上的有机粘合层，该粘合层的厚度范围为约0.025μm至约20.0μm；和
形成在该粘合层表面上的有机硬质涂层，该硬质涂层的厚度范围为约0.025μm至约20.0μm。
2.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该透明膜基底的折射率约等于硬质涂层的折射率。
3.根据权利要求1的硬质涂层膜，进一步包含形成在所述粘合层和所述硬质涂层之间的无机层，该无机层的厚度范围为约5nm至约100nm。
4.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该粘合层的厚度范围为约0.025μm至约0.045μm。
5.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该粘合层的厚度为约0.025μm+/-约2％。
6.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度范围为约0.025μm至约0.1μm。
7.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度范围为约0.025μm至约0.045μm。
8.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度为约0.025μm+/-约2％。
9.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度在横跨幅面的方向上是均匀的，在约+/-2％的偏差之内。
10.根据权利要求1的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度在该幅面的方向上是均匀的，在约+/-2％的偏差之内。
11.硬质涂层膜，所述膜包含：
透明聚合物膜基底；
形成在该膜基底表面上的有机粘合层，其通过在真空中将第一有机材料沉积在该膜基底表面上来形成；
形成在该粘合层表面上的有机硬质涂层，其通过在真空中将第二有机材料沉积在该粘合层上来形成；并且其中
该粘合层的厚度范围为约0.025μm至约20μm，以及该硬质涂层的厚度范围为约0.025μm至约20μm。
12.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该透明膜基底的折射率约等于该硬质涂层的折射率。
13.根据权利要求11的硬质涂层膜，进一步包括形成在该粘合层和该硬质涂层之间的无机层，该无机层的厚度范围为约5nm至约100nm。
14.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层的厚度范围为约0.025μm至约0.045μm。
15.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层的厚度范围为约0.025μm至约0.1μm。
16.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度范围为约0.025μm至约0.045μm。
17.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度在横跨幅面的方向上是均匀的，在约+/-2％的偏差之内。
18.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该硬质涂层的厚度在幅面的方向上是均匀的，在约+/-2％的偏差之内。
19.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层和该硬质涂层以单程在连续的沉积工序中施加在膜基底上，其中该膜基底的供给速率范围为约0.1米/分钟至约1000米/分钟。
20.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层和该硬质涂层以单程在连续的沉积工序中施加在膜基底上，其中该膜基底的供给速率范围为约200米/分钟至约1000米/分钟。
21.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层和该硬质涂层以单程在连续的沉积工序中施加在膜基底上，其中该膜基底的供给速率范围为约500米/分钟至约1000米/分钟。
22.根据权利要求11的硬质涂层膜，其中该粘合层和该硬质涂层以单程在连续的沉积工序中施加在膜基底上，其中该膜基底的供给速率范围为约750米/分钟至约1000米/分钟。
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