[发明专利]刻蚀掩模膜的测评

权利要求书

1.连同光掩模坯料，其包含透明衬底、该衬底上用于形成光掩模图案的图案形成膜以及图案形成膜上用于在图案形成膜的刻蚀期间作为掩模的刻蚀掩模膜，

一种测评所述刻蚀掩模膜的方法，包括步骤：

测量第一刻蚀完成时间(C1)，其是在施加于图案形成膜的刻蚀条件下刻蚀该刻蚀掩模膜时所花费的时间，此时由图案形成膜形成光掩模图案，

测量第二刻蚀完成时间(C2)，其是在施加于刻蚀掩模膜的刻蚀条件下刻蚀该刻蚀掩模膜时所花费的时间，此时由刻蚀掩模膜形成刻蚀掩模图案，以及

计算第一刻蚀完成时间与第二刻蚀完成时间的比值(C1/C2)，由此测评刻蚀掩模膜的性能。

2.如权利要求1所述的测评方法，其中施加于图案形成膜的刻蚀是氟基干法刻蚀，并且施加于刻蚀掩模膜的刻蚀是氯基干法刻蚀。

3.如权利要求1所述的测评方法，其中图案形成膜由包含硅和其它金属的材料形成，并且刻蚀掩模膜由包含铬的无硅材料形成。

4.如权利要求2所述的测评方法，其中图案形成膜由包含硅和其它金属的材料形成，并且刻蚀掩模膜由包括铬的无硅材料形成。