[发明专利]一种用于氧传感器的TiO2 敏感层结构及其制备方法

权利要求书

1.一种用于氧传感器的TiO₂敏感层结构，包括设置在绝缘层上表面的Pt叉指状电极层和其上的TiO₂敏感层，Pt叉指状电极层下面设有Ti粘结层，形状和Pt叉指状电极相吻合，其中，绝缘层为上、下两层，上、下绝缘层之间有加热层，其特征在于，所述TiO₂敏感层为掺杂有Pt的TiO₂层，其平面几何特征为多孔网状结构。

2.如权利要求1所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层结构，其特征在于，所述多孔网状结构的TiO₂敏感层，其网线宽为2-4μm；纵横网线围成的网孔为边长4-8μm的正方形。

3.如权利要求1所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层结构，其特征在于，最外层网线围成边长为74-148μm大正方形。

4.如权利要求2所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层结构，其特征在于，所述Pt叉指状电极，叉指宽度刚好为网线宽度；叉指间距刚好为网孔的边长。

5.一种用于氧传感器的TiO₂敏感层的制备方法，基于权利要求1所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层的结构，其特征在于，包括下述步骤：

a．用匀胶光刻法在绝缘层表面定义出Pt叉指状电极的形状和位置；

b.用溅射方法溅射50nm厚的Ti作为Ti粘结层，随后溅射150nm厚Pt，采用超声剥离工艺去除胶膜形成叉指状电极；

c．以溶胶凝胶法制备含钛离子乳胶，用匀胶法涂敷到叉指状电极所在位置的上绝缘层上，并覆盖叉指状电极，经500℃烘干，形成TiO₂膜层；

d．用光刻胶做掩蔽层，利用反应离子刻蚀法将TiO₂膜层刻蚀成正方形网状结构，并同时刻蚀出叉指电极引线盘。

6.如权利要求5所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层的制备方法，其特征在于，所述多孔网状结构的TiO₂敏感层，其网线宽为2-4μm；纵横网线围成的网孔为正方形，边长4-8μm。

7.如权利要求5所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层的制备方法，其特征在于，最外层网线围成大正方形，边长为74-148μm。

8.如权利要求6所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层的制备方法，其特征在于，所述Pt叉指状电极的叉指宽度刚好为网线宽度；叉指间距刚好为网孔的边长。

9.如权利要求5所述的用于氧传感器的TiO₂敏感层的制备方法，其特征在于，所述的含钛乳胶，加入有乙酰丙酮铂，使Pt：Ti的原子数比为0.05。