[发明专利]喷墨墨、喷墨记录方法、墨盒、记录单元和喷墨记录设备有效
申请号: | 201210512917.0 | 申请日: | 2009-03-19 |
公开(公告)号: | CN103059640A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 山上英树;富冈洋;冈村大二;石井充;工藤智;森乙女 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C09D11/02 | 分类号: | C09D11/02;B41J2/01;B41J2/175;B41M5/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 记录 方法 墨盒 单元 设备 | ||
1.一种喷墨墨,其至少包含由以下通式(I)表示的化合物和由以下通式(II)表示的化合物:
通式(I)
其中,在通式(I)中,[A]为五元杂环基,所述杂环基可与脂族环、芳族环或其它杂环通过缩合而连接或者所述杂环基可进一步具有取代基;[B]和[C]为CR1和CR2,或者[B]和[C]之一为氮原子,另一者为CR1;R5和R6各自独立地为氢原子或选自包括以下基团的组中的取代基:脂族基、芳族基、杂环基、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基和氨磺酰基;所述取代基中的氢原子可被取代;部分构成该式中的[B]和[C]的R1和R2各自独立地为氢原子或选自包括以下基团的组中的取代基:卤素原子、脂族基、芳族基、杂环基、氰基、羧基、氨基甲酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、杂环氧羰基、酰基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、硅氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、氨基、酰氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、烷基磺酰氨基、芳基磺酰氨基、杂环磺酰氨基、硝基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、杂环磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、杂环亚磺酰基、氨磺酰基及磺酸基,该式中的[D]为以下基团的任意一种:氢原子、卤素原子、脂族基、芳族基、羟基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、杂环氧基、氨基、酰氨基、芳氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、烷硫基、芳硫基和杂环硫基;所述取代基中的氢原子可被取代,R1与R5或R5与R6可连接形成五元环或六元环;和
通式(II)
Rx-[E]-Ry
其中,在通式(II)中,-[E]-为-S(=O)2-;Rx和Ry各自独立地选自包括以下基团的组中的一种:氢原子、羟基、烷基、羟烷基、链烯基、酰基、氨基甲酰基、羧基和磺酰基,
在通式(II)中,不包括以下情况:Rx和Ry同时为氢原子的情况;Rx和Ry同时为羟基的情况;Rx和Ry之一为氢原子,另一者为羟基的情况。
2.根据权利要求1所述的喷墨墨,其中相对于墨的总质量,由该通式(II)表示的化合物在墨中的含量在1.0质量%至30.0质量%的范围内。
3.根据权利要求1所述的喷墨墨,其中由该通式(II)表示的化合物为双(2-羟乙基)砜。
4.根据权利要求1所述的喷墨墨,其进一步包含甘油。
5.根据权利要求4所述的喷墨墨,其中相对于墨的总质量,由该通式(II)表示的化合物的含量和甘油的含量的总和为8.0质量%至23.0质量%。
6.根据权利要求4所述的喷墨墨,其中由该通式(II)表示的化合物的含量与甘油的含量的质量比在0.40以上至5.90以下的范围内。
7.根据权利要求1所述的喷墨墨,其进一步包含由以下通式(III)表示的化合物,其中由以下通式(III)表示的化合物的含量与通式(I)表示的化合物的含量的质量比为2.5以上至10.0以下:
通式(III)
其中,在通式(III)中,Rz各自独立地为氢原子、烷基、羟烷基、环己基、单烷基氨基烷基或二烷基氨基烷基;M各自独立地选自包括氢原子、碱金属、铵和有机铵的组中的一种;[F]为连接基团。
8.一种喷墨记录方法,在所述喷墨记录方法中,通过由喷墨系统喷射墨来进行记录,其中所述墨包含根据权利要求1所述的喷墨墨。
9.一种墨盒,其包括贮存有根据权利要求1所述的喷墨墨的墨贮存部。
10.一种记录单元,其包括贮存有根据权利要求1所述的喷墨墨的墨贮存部和用于喷射所述墨的记录头。
11.一种喷墨记录设备,其包括贮存有根据权利要求1所述的喷墨墨的墨贮存部和用于喷射所述墨的记录头。
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