[发明专利]光学材料亚表面损伤层厚度的测量方法有效

专利信息
申请号: 201210509908.6 申请日: 2012-12-03
公开(公告)号: CN103017713A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 朱永伟;戴子华;刘婷婷;李军;左敦稳 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G01B21/08 分类号: G01B21/08;G01N1/32
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 瞿网兰
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光学材料 表面 损伤 厚度 测量方法
【权利要求书】:

1.一种测量硬脆性光学材料亚表面损伤层厚度的方法,其特征中它包括以下步骤:

(1)基体样件的制备:将盛放化学腐蚀液的容器置于恒温环境中,将基体样件置于化学腐蚀液中不少于2小时,确保其亚表面损伤层已完全去除,得到供比较用的基体样件B;

(2)对基体样件B和加工样件A进行清洗和烘干:将与基体样件B长宽尺寸相同的待检测的加工样品A和基体样件B同时或分别放入超声波清洗机中清洗,取出,放入干燥箱烘干;

(3)分别制备基体样件B和加工样品A的装配件;将经过清洗干燥的待检测的加工样品A和基体样件B的下表面平行贴在塑料垫板的上表面,塑料垫板的上表面作为测量腐蚀深度的基准面;同时,在待检测的加工样品A和基体样件B上表面分别划分形成两个对称区域A1与A2、B1与B2,用塑料压片各贴住其中的一个区域,得到样品装配件,为下一步分步腐蚀做准备;塑料压片的作用在于阻止同一样件表面两个区域同时腐蚀,使上述两个区域进行分步腐蚀,每一次的腐蚀环境相同,但各自总的腐蚀时间相差一个时间段,使得在i+1次腐蚀操作内,可以得到先腐蚀了一个时间段的第一区第i+1次腐蚀深度和第二区第i次腐蚀深度,而第二区第i次腐蚀深度理论上是和第一区第i次腐蚀深度相等的,而实际测量值相差很大,这是由于实验操作误差引起的;

(4)将上述基体样件B和加工样品A装配件同时置于配制好的蚀刻液中,放入恒温水浴中,使得所述的加工样品A和经基体样件B上表面中没有被塑料压片贴住掩盖的区域显露在化学腐蚀液中进行腐蚀,腐蚀一个时间段以后,将基体样件B和加工样品A装配件取出,放入超声波清洗机中清洗然后取出,放入干燥箱烘干;

(5)用台阶仪分别测量基体样件B和加工样品A装配件上的加工样品A和基体样件B被腐蚀区域的腐蚀轮廓,分别得出加工样品A和基体样件B腐蚀区域的腐蚀深度平均值,算出各自的平均腐蚀速率;

(6)除去基体样件B和加工样品A装配件上的塑料压片,将它们放入化学腐蚀液中重复第(4)、第(5)步所述的腐蚀、清洗、干燥、测量;分别得出加工样品A第一区、第二区和基体样件B第一区、第二区的腐蚀深度平均值,算出各自的平均腐蚀速率;

(7)计算修正系数;引入加工样品A的腐蚀修正系数Ki,i指第i次腐蚀操作;K1=1、K2=Pa21/Pa11、K3=Pa22/Pa12…Ki=Pa2(i-1)/Pa1(i-1),加工样品A对应的实际腐蚀深度可用式|Pa1i|=Pa1i×Ki表示,Pa1i为加工样品A1区域在第i次腐蚀操作测得的腐蚀深度;B1区域的腐蚀深度的修正原理同上,即引入基体样品腐蚀修正系数Ci,i指第i次腐蚀操作,C1=1,C2=Jb21/Jb11,C3=Jb22/Jb12…Ci=Jb2(i-1)/Jb1(i-1),基体样件B对应的实际腐蚀深度可用式|Jb1i|=Jb1i×Ci表示,Jb1i为基体样品B1区域在第i次腐蚀操作测得的腐蚀深度;

(8)亚表面损伤层厚度的计算;当经过i+1腐蚀操作时,同时满足如下条件:(1)|Pai|≠|Jai|;(2)|Pai+1|=|Jai+1|,则加工样品亚表面损伤层深度为即在第i+1次腐蚀操作时间内,A1区域的实际腐蚀深度等于B1区域的实际腐蚀深度,则加工样品亚表面损伤层深度为前i次腐蚀深度的累积值。

2.根据权利要求1所述的测量硬脆性光学材料亚表面损伤层厚度的方法,其特征在于利用化学腐蚀液对光学元件的腐蚀性,通过对加工样件和基体样件进行同实验环境分步腐蚀,采用深度测量工具对腐蚀表面进行扫描,测量平面上标定区域的腐蚀深度,计算出其腐蚀速率。

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