[发明专利]一种粉体或颗粒等离子体处理装置

权利要求书

1.一种粉体或颗粒等离子体处理装置，包括：

具有腔室的可旋转筒体或球体，所述腔室的空间为圆柱体或球体，在所述筒体或球体上具有所述粉体或颗粒的入口和工作气体入口，以便将所述粉体或颗粒和工作气体送入上述腔室中；

用于驱动所述筒体或球体旋转的驱动装置；

多个位于所述腔室中的固定的棒形正电极，所述正电极的纵向与所述腔室空间的纵向一致；

金属负电极；

与所述正电极和负电极实现电连接使所述腔室中产生等离子体气体的等离子体电源；

其中，所述腔室壁体的至少一部分构成所述金属负电极，在所述正电极和负电极之间有至少一个介电材料层，所述至少一个介电材料层对应所有的正电极或其中的一个正电极，其特征在于：

上述多个固定的棒形正电极的横截面呈正多边形排列或圆形排列，并且在棒形正电极工作时，其即被用作正电极，又被用作上述粉体或颗粒的搅拌棒，从而使所述粉体或颗粒被均匀分散和均匀处理。

2.一种粉体或颗粒等离子体处理装置，包括：

具有腔室的可旋转筒体或球体，所述腔室的空间为圆柱体或球体，在所述筒体或球体上具有所述粉体或颗粒的入口和工作气体入口，以便将所述粉体或颗粒和工作气体送入上述腔室中；

用于驱动所述筒体或球体旋转的驱动装置；

一个位于所述腔室中的固定的正电极，所述正电极的横截面为扇形或所述正电极为扇形，并且扇形圆心线位于腔室圆柱体空间轴线上或扇形圆心位于腔室球体空间中心上；

金属负电极；

与所述正电极和负电极实现电连接使所述腔室中产生等离子体气体的等离子体电源；

其中，所述腔室壁体的至少一部分构成所述金属负电极，在所述正电极和负电极之间有至少一个介电材料层，所述至少一个介电材料层对应所有的正电极或其中的一个正电极，其特征在于：

在所述腔室内表面上有至少一个凸起部件，被用作上述粉体或颗粒的搅拌装置，从而使所述粉体或颗粒被均匀分散和均匀处理。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述凸起部件的形状或其横截面形状为锐角形、钝角形、半圆形、弧线形、和/或流线型。

4.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，在所述筒体或球体上具有压缩空气入口，以便将压缩空气送入上述腔室中，用于将粘附在所述腔室内壁上或正电极表面上的粉体或颗粒剥离。

5.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述介电材料层为石英玻璃管、有机材料管和/或陶瓷管。

6.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体是介质阻挡放电(DBD)产生的等离子体气体。

7.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述正电极与所述负电极之间的距离是1-50毫米。

8.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述正电极材料为石墨或含石墨的物质。

9.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述金属负电极材料为铁、钢、铜、铝、各种合金或贵金属。

10.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体工作气体是空气和/或惰性气体。

11.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体电源的工作电压为10⁴～10⁶伏；频率为50赫兹-1兆赫兹。

12.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体电源包括一个脉冲变压器。

13.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述腔室的纵向在水平方向上。

14.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述装置在常温和常压下工作。

15.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉体或颗粒的体积是所述腔室空间体积的10-70%。

16.根据权利要求15所述的等离子体处理装置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉体或颗粒的体积进一步是所述腔室空间体积的20-50%。