[发明专利]一种电磁漏斗式双向切削液净化系统无效
申请号: | 201210500964.3 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN103041919A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 王同和 | 申请(专利权)人: | 大连凯泓科技有限公司 |
主分类号: | B03C1/30 | 分类号: | B03C1/30 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 曲永祚 |
地址: | 116600 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电磁 漏斗 双向 切削 净化系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种切削液净化装置,特别涉及一种电磁漏斗式双向切削液净化系统。
背景技术
工业加工产生切削液含有大量的铁削,但是大部分都是通过一套净化装置统一处理,由于切削液内含有铁削的大小不同,进而净化装置经常发生阻塞,由于大多数净化都通过磁滚倒置维修困难。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种电磁漏斗式双向切削液净化系统。
为达到以上目的,通过以下技术方案实现的:
一种电磁漏斗式双向切削液净化系统,包括:存储箱、一级净化装置和二级净化装置;存储箱底部为漏斗状,且漏斗状倾斜面设置有电磁铁层;存储箱底部漏斗状出口通过管路与设置于下端的一级净化装置连接,且在上述管路上设置有电磁阀;电磁铁层通过电路与用于控制电磁铁层通电的开关连接;一级净化装置通过带有废液输出泵的管路与二级净化装置连接;存储箱中部安装带有废液输出泵的管路与二级净化装置连接;一级净化装置为过滤网净化装置;二级净化装置为现有应用磁力滚净化装置;电磁铁层与开关连接电路上设置有定时装置;
采用了上述技术方案的本发明首先通过存储箱将切削液存储,然后通过开关启动电磁铁层,这样切削液里面的较大铁削就会快速沉降到底端,沉降一段时间后,根据要求设置沉降时间给定时装置,当定时装置计时到设定时常,关闭电磁铁层,打开电磁阀,这样通过重力排出的废液都是含大量铁削的废液,然后通过管路进入一级净化处理装置进行将较大铁削过滤的初级过滤,经过初级过滤的切削液通过启动废液输出泵将切削液输送入到二级净化装置中进行精细的二次净化处理(一般采用磁力滚的方式实现二次净化);在电磁铁层关闭的时,存储箱内切削液只有底部由于电磁铁的作用使铁削浓度较高并且有大块铁削存在,中部和上端的切削液已经比较清洁,此时可启动连接在存储箱中部的废液输出泵将此处的切削废液直接输入到二级净化装置中进行进一步的净化(一般采用磁力滚的方式实现二次净化)。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1为本发明的结构原理示意图。
具体实施方式
如图1所示的一种电磁漏斗式双向切削液净化系统,包括:存储箱1、一级净化装置2和二级净化装置3;存储箱1底部为漏斗状,且漏斗状倾斜面设置有电磁铁层4;存储箱1底部漏斗状出口通过管路与设置于下端的一级净化装置2连接,且在上述管路上设置有电磁阀5;电磁铁层4通过电路与用于控制电磁铁层4通电的开关6连接;一级净化装置2通过带有废液输出泵7的管路与二级净化装置3连接;存储箱1中部安装带有废液输出泵7的管路与二级净化装置3连接;一级净化装置2为过滤网净化装置;二级净化装置3为现有应用磁力滚净化装置;电磁铁层4与开关6连接电路上设置有定时装置8;
采用了上述技术方案的本发明首先通过存储箱1将切削液存储,然后通过开关6启动电磁铁层4,这样切削液里面的较大铁削就会快速沉降到底端,沉降一段时间后,根据要求设置沉降时间给定时装置8,当定时装置8计时到设定时常,关闭电磁铁层4,打开电磁阀5,这样通过重力排出的废液都是含大量铁削的废液,然后通过管路进入一级净化处理装置2进行将较大铁削过滤的初级过滤,经过初级过滤的切削液通过启动废液输出泵7将切削液输送入到二级净化装置3中进行精细的二次净化处理(一般采用磁力滚的方式实现二次净化);在电磁铁层4关闭的时,存储箱1内切削液只有底部由于电磁铁的作用使铁削浓度较高并且有大块铁削存在,中部和上端的切削液已经比较清洁,此时可启动连接在存储箱1中部的废液输出泵7将此处的切削废液直接输入到二级净化装置3中进行进一步的净化(一般采用磁力滚的方式实现二次净化)。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上诉揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
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