[发明专利]一种可钢化超高透单银低辐射玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种可钢化超高透单银低辐射玻璃。

背景技术：

现有的玻璃，在实现防辐射功能的同时，又导致其透光率较低，故有必要对现有的玻璃作出改进，以提供一种既能防辐射，又具有高透光率的玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种可钢化超高透单银低辐射玻璃，其可在保证透光率的同时，降低红外辐射。

一种可钢化超高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于：还包括由下而上依次设于玻璃基材上表面的一Si₃N₄介质层、一TiO₂介质层、一NbO_x折射层、一CrN_x阻挡层、一AZO平整层、一降辐射镀Ag层、一CrN_xO_y膜层、一TiO₂保护层、以及一Si₃N₄O_y介质层。

作为上述方案的一种改进，所述Si₃N₄介质层的厚度为20~50nm。

作为上述方案的进一步改进，所述TiO₂介质层的厚度为10~30nm。

作为上述方案的进一步改进，所述NbO_x折射层的厚度为5~10nm。

作为上述方案的进一步改进，所述CrN_x阻挡层的厚度为0.5~3nm。防止Ag被氧化。

作为上述方案的进一步改进，所述AZO平整层的厚度为5~20nm。平滑所述CrN_x阻挡层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。

作为上述方案的进一步改进，所述降辐射镀Ag层的厚度为7~10nm。可大大降低红外辐射。

作为上述方案的进一步改进，所述CrN_xO_y膜层的厚度为0.5~5nm。可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

作为上述方案的进一步改进，所述TiO₂保护层的厚度为20~50nm。耐腐蚀性好。

作为上述方案的进一步改进，所述Si₃N₄O_y介质层的厚度为20~50nm。提高钢化时抗高温氧化性。

本发明具有如下优点：钢化前透光率达83%，钢化后透光率达86%，且辐射率小于0.07。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种可钢化超高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材1、以及由下而上依次设于玻璃基材1上表面的一Si₃N₄介质层2、一TiO₂介质层3、一NbO_x折射层4、一CrN_x阻挡层5、一AZO平整层6、一降辐射镀Ag层7、一CrN_xO_y膜层8、一TiO₂保护层9和一Si₃N₄O_y介质层10。

所述Si₃N₄介质层2的厚度为20~50nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射半导体材料，该半导体材料为含Si和Al的半导体材料，其中Si、Al的比例为90:10，用氮气作反应气体，从而在玻璃基材表面形成Si₃N₄介质层。

所述TiO₂介质层3的厚度为10~30nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶，用氧气作反应气体，最终在Si₃N₄介质层表面形成TiO₂介质层。

所述NbO_x折射层4的厚度为5~10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷铌靶，最终在TiO₂介质层表面形成NbO_x折射层。

所述CrN_x阻挡层5的厚度为0.5~3nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气作反应气体，最终在NbO_x折射层表面形成CrN_x阻挡层。防止Ag被氧化。