[发明专利]场发射光源结构无效
申请号: | 201210478027.2 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN103839756A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 周明杰;吴康锋;陈贵堂 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
主分类号: | H01J63/02 | 分类号: | H01J63/02;H01J63/06 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发射 光源 结构 | ||
技术领域
本发明涉及光电子技术领域,尤其涉及一种场发射光源结构。
背景技术
场发射光源是场发射研究的重要应用之一,其即可以应用于照明装置中,也可以用作显示器的背光源,如场发射显示器。因此,具有场发射光源的场发射器也已经成为照明装置及显示器等装置中不可缺少的器件。所述场发射器大多包括阴极基板、阳极基板及隔离体,该隔离体置于所述阴极基板和阳极基板之间,从而将该阴极基板和阳极基板隔开。
在实际应用时,该隔离体的形状、尺寸及摆放位置除了会对基板表面的应力和电场分布产生影响,还会对基板稳固性有较大影响。然而,由于传统的隔离体整体大致呈球体状,将其直接放置于所述阴极基板和阳极基板之间对该基板的稳固性的影响有:(1)该场发射光源结构内外的气压差施加压力于该阴极基板和阳极基板上,可能会导致该阴极基板和阳极基板之间的隔离体破裂;(2)该场发射光源结构工作时,由于所述阴极基板和阳极基板产生热量而导致其发生形变,则该球体状的隔离体容易滑动,造成该场发射光源结构不稳定。
发明内容
针对上述问题,本发明的目的在于提供一种具有较高的结构稳定性的场发射光源结构。
可减少电场强度,且具有工作稳定性的场发射光源结构。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种场发射光源结构,其包括阴极基板、阳极基板及位于所述阴极基板和阳极基板之间的若干基板隔离体,所述阴极基板开设有若干第一卡槽,所述阳极基板上对应于所述第一卡槽的位置开设有若干第二卡槽,每一基板隔离体的相对两端凸设有第一卡块及第二卡块,所述第一卡块及第二卡块分别可移动地置于所述第一卡槽及第二卡槽内,所述若干基板隔离体固设于所述阴极基板和阳极基板之间。
其中,所述基板隔离体为球体状,所述第一卡块和第二卡块凸设于该球体状的基板隔离体的任一直径延长线上,该第一卡块和第二卡块关于该基板隔离体的球心对称分布。
其中,每一所述基板隔离体进一步包括第一结合面及第二结合面,所述第一结合面贴合于所述阴极基板的表面,该第一卡块从该第一结合面上凸出,所述第二结合面贴合于所述阳极基板的表面,该第二卡块从该第二结合面上凸出。
其中,所述第一卡块的形状和尺寸对应于所述第一卡槽的形状和尺寸,所述第二卡块的形状和尺寸对应于所述第二卡槽的形状和尺寸。
其中,所述第一卡槽、第一卡块、第二卡槽及第二卡块为圆柱体状、四面体状或六面体状。
其中,所述基板隔离体通过物理抛光、化学腐蚀及激光切割加工形成。
其中,所述阴极基板和阳极基板形成一对正负电极体,且二者之间在高电压的作用下产生电场。
其中,所述阴极基板和阳极基板为长方体板状,二者的横截面均为正方形,且所述阴极基板和阳极基板由玻璃制成。
其中,所述基板隔离体由具有特定刚度的绝缘材料制成。
其中,所述基板隔离体由陶瓷、玻璃或碳化硼制成。
本发明所提供的场发射光源结构中,所述第一卡块插入所述阴极基板上的第一卡槽内,将所述第二卡块插入所述阳极基板上对应的第二卡槽内,则所述若干基板隔离体固设于所述阴极基板和阳极基板之间。因此,即使所述阴极基板和阳极基板由于热效应而发生形变时,该基板隔离体也不会相对于所述阴极基板和阳极基板发生移动,进而增加了该场发射光源结构的整体结构稳定性及其使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明第一实施例提供的场发射光源结构的水平方向的剖视图。
图2是本发明第一实施例提供的场发射光源结构的垂直方向的剖视图。
图3是本发明第二实施例提供的场发射光源结构的垂直方向的剖视图。
图4是本发明实施例提供的场发射光源结构的组装制造流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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