[发明专利]一种去除光刻胶的清洗液在审
| 申请号： | 201210477152.1 | 申请日： | 2012-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103838091A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 孙广胜;刘兵;彭洪修;颜金荔;徐海玉 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 光刻 清洗 | ||
1.一种去除光刻胶的清洗液，其特征在于，所述清洗液包含季铵氢氧化物，醇胺，C4-C6多元醇以及溶剂。
2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述季铵氢氧化物的含量为0.1～10wt％。
3.如权利要求2所述的清洗液，其特征在于，所述季铵氢氧化物的含量为1～5wt％。
4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量为小于5wt％。
5.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述C4-C6多元醇的含量为0.1～10wt％。
6.如权利要求5所述的清洗液，其特征在于，所述C4-C6多元醇的含量为0.1～5wt％。
7.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液中的余量为溶剂。
8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的季铵氢氧化物选自季铵氢氧化物包括四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵和羟乙基三甲基氢氧化铵等中的一种或者几种。
9.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。
10.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的C4-C6多元醇选自赤藓糖醇、木糖醇、葡萄糖、山梨醇、甘露醇。
11.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、酰胺中的一种或多种。
12.如权利要求11所述的清洗液，其特征在于，所述的亚砜为二甲基亚砜；所述的砜为环丁砜；所述的咪唑烷酮为1,3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺选自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺中的一种或多种。
13.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有研磨颗粒。
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