[发明专利]一种压裂返排液的处理方法有效
申请号: | 201210473701.8 | 申请日: | 2012-11-20 |
公开(公告)号: | CN102992524A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 吴萌;陈雁南;王俐;万用波;王永光;原帅;姜长辉;刘庆;张建华;李强 | 申请(专利权)人: | 北京矿冶研究总院 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06;C02F1/76 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 郝颖洁 |
地址: | 100070 北京市丰台区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压裂返排液 处理 方法 | ||
1.一种压裂返排液的处理方法,其特征在于,该方法步骤如下:
1) ,压裂返排液进行絮凝沉淀,然后进行过滤,除去成垢元素;
2) ,过滤沉淀之后的溶液进入自氧化发生装置,利用激发效应将废水中氯离子转化成次氯酸根和氯气后继续搅拌进行氧化曝气反应;
3) ,将步骤2中经过氧化曝气反应的液体进行液固分离,得到处理后的压裂返排液。
2.根据权利要求1所述处理方法,其特征在于,所述步骤1)中压裂返排液进行絮凝沉淀是通过加入絮凝剂实现的,所述絮凝剂包括碳酸钠、氢氧化钙、氢氧化钠、PAM、PAC、PFS中的一种或多种。
3.根据权利要求2所述处理方法,其特征在于,所述絮凝剂的用量分别为:以质量百分含量计,或以质量倍数计,碳酸钠添加量为待处理溶液的0.4-2%;氢氧化钙添加量为待处理溶液的0.1~0.8%;氢氧化钠添加量为待处理溶液的0.1~0.5%;絮凝剂PAM添加量为待处理溶液的2~10mg/l; PAC添加量为待处理溶液的 0.1~0.6%;PFS添加量为待处理溶液的0.1~0.6%;
根据权利要求1所述处理方法,其特征在于,所述步骤2)中激发效应是通过超声波、微波,紫外光与电解共同作用实现激发效应。
4.根据权利要求4所述处理方法,其特征在于,所述超声波为超声波发生器产生的17.5-22.5Hz超声波;微波为微波发生器产生的2450MHz±50Hz微波;紫外光为紫外光发生器产生的波长在100-275nm范围的紫外光。
5.根据权利要求4所述处理方法,其特征在于,所述电解为通过电解池中进行的电解反应实现的,电解池中阳极材料使用铂及、铂铱合金、钛、或包裹贵金属涂层的钛,石墨或铅锑氧化物合金电极的任意一种;阴极材料使用不锈钢,石墨,钛或铅的任意一种;电流1-50A,电压1-20V,电解时间,0.5-10h。
6.根据权利要求6所述处理方法,其特征在于,所述贵金属为铂、钌、钯中的任意一种或多种。
7.应用于权利要求1-7任一所述处理方法的自氧化发生装置,其特征在于,包括电解池,电极 ,气体接收器,曝气装置,激发发生器;所述电极放置在电解池内,电解池上部为气体接收器,电解池下部与曝气装置连接,气体接收器与曝气装置通过管道连接;激发发生器位于电解池旁可作用到电解池内液体的位置。
8.根据权利要求8所述的自氧化发生装置,其特征在于,所述激发发生器,包括超声波发生器、微波发生器、紫外光发生器中的任意一种或多种的集合;所述电极极板间距10-500mm,极板面积100-2500cm2。
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