[发明专利]一种提高YVO4晶体生长质量的原料合成方法无效
申请号: | 201210462669.3 | 申请日: | 2012-11-16 |
公开(公告)号: | CN103818958A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 滕硕;唐崧捷;廖洪平 | 申请(专利权)人: | 福建福晶科技股份有限公司 |
主分类号: | C01G31/00 | 分类号: | C01G31/00;C30B29/30;C30B7/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350003 福建省福州市鼓楼区*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 yvo sub 晶体生长 质量 原料 合成 方法 | ||
技术领域
本发明涉及晶体生长领域,特别是一种提高YVO4晶体生长质量的原料合成方法。
背景技术
YVO4晶体是一种优秀的双折射光学晶体,在可见及近红外很宽的波段范围内有良好的透光性,较大的折射率值及双折射率差。与其它重要的双折射晶体相比,YVO4晶体比冰洲石硬度高,机械加工性能好,不溶于水,并可人工生长;YVO4晶体也比金红石易于生长出大块优质晶体,价格大大低于金红石。这些优异特性使YVO4晶体迅速成为新型的双折射光学材料,在光电产业中得到广泛的应用。在光纤通讯设备中,就需要大量的由YVO4晶体制造的各种分光、偏光元件,如光隔离器、环形器、光分束器、及格兰系列偏光器等。YVO4晶体与金红石等晶体组合,还可以得到理想的温度补偿效果,大大提高光通讯系统的温度稳定。
在晶体生长中,影响晶体质量最关键的因素是晶体内部生长纹,因为Y3+离子半径小,因此在Y3+离子附近形成刃型位错造成了晶体内部生长纹,本发明通过在原料中添加L a3+离子,利用大半径离子La3+替代Y3+进入晶格后所形成的张力可减小该离子Y3+附近刃型位错的应变能,从而可在一定程度上抑制位错的迁移和重排,即抑制小角度晶界的形成,可以有效改善纯YV04晶体的光学均匀性,获得高光学质量、较大尺寸、物理性能优良的YV04。
发明内容
针对传统原料合成方法存在的问题,本发明采用的技术如下:一种提高YVO4晶体生长质量的原料合成方法,采用步骤如下:依据配比浓度在蒸馏水中加入浓硝酸并煮沸,加入Y2O3 粉末同时称量一定量的NH4VO3粉末加入蒸馏水中煮沸搅拌后加入La2O3粉末,将两种溶液混合后不断搅拌,搅拌同时加入浓氨水来控制溶液的pH值,混合反应完全后将溶液静置沉淀得到的沉淀物烘干烧结成原料,所述加入浓氨水控制溶液反应完全时的pH值在7~7.6之间。
具体实施方式
实施例一:步骤1.在电子天平上称量Y2O3 和 NH4VO3 。
步骤2.两只5000ml烧杯(A 和B),往A中放入搅拌磁子,加入2000ml蒸馏水,根据合成浓度(表1)加入浓HNO3,加热至沸。沸腾后将A移到搅拌器上,搅拌,接着缓慢加入Y2O3 粉末,待溶液澄清透明后,再往A中倒入蒸馏水到3000ml。
步骤3.烧杯中加入3000 ml蒸馏水,加热至沸,加入指定的浓氨水,然后分别倒入NH4VO3粉末和La2O3粉末。
步骤4.将两种溶液搅拌混合并反应,缓慢加入浓氨水,控制溶液pH值在6-8之间,反应结束时pH值在7.0-7.6。
步骤5.静置一天,倒去上层清夜,将半固态沉淀分次倒入离心机的沉淀杯中进行固液分离,将固体沉淀物装入结晶皿中。
步骤6. 固体沉淀物放入托盘中,移入烘箱,在1950C下烘10-12小时。.将烘干的块状料装入铂坩埚内,在箱式电炉中12000C下烧结10-12小时,冷却后得到原料。
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