[发明专利]场发射双面显示光源及其制造方法

权利要求书

1.一种场发射双面显示光源，包括相对设置的两阳极以及设于所述两阳极之间的阴极，各所述阳极均包括阳极基板及设于所述阳极基板一表面上的发光层，所述阴极包括阴极基板及设于所述阴极基板两相对表面的电子发射层，所述两电子发射层分别与所述两阳极基板上的发光层正对，其特征在于：所述场发射双面显示光源还包括隔离底座、支撑体及封边；所述两阳极基板的底端间隔固定于所述隔离底座上，所述两阳板基板的顶端通过所述支撑体连接于一体，所述两阳极基板的侧边通过所述封边封接，所述两阳极基板、所述支撑体、所述隔离底座与所述封边围合形成一封闭真空空间，所述阴极基板的底端固定于所述隔离底座上且位于所述两阳极基板之间，所述阴极基板的顶端悬空位于所述封闭真空空间内。

2.如权利要求1所述的场发射双面显示光源，其特征在于：所述隔离底座上设有间隔设置的两第一安装槽，所述两阳极基板的底端分别插设固定于所述两第一安装槽内；所述两第一安装槽之间设有一第二安装槽，所述阴极基板的底端插设固定于所述第二安装槽内。

3.如权利要求2所述的场发射双面显示光源，其特征在于：所述两第一安装槽与所述第二安装槽底部均设有贯通所述隔离底座、且供外部电源导线伸入的接线孔。

4.如权利要求1所述的场发射双面显示光源，其特征在于：所述隔离底座采用陶瓷或玻璃制成。

5.如权利要求1所述的场发射双面显示光源，其特征在于：所述阴极基板采用不锈钢材料制成。

6.如权利要求1所述的场发射双面显示光源，其特征在于：所述两电子发射层为采用热化学气相沉积法以所述阴极基板为基体生长的纳米薄膜。

7.一种场发射双面显示光源的制造方法，其特征在于：包括以下工艺步骤：

预备两阳极，各所述阳极均包括阳极基板及设于所述阳极基板一表面上的发光层；

预备阴极，所述阴极包括阴极基板及设于所述阴极基板两相对表面的电子发射层；

预备隔离底座、支撑体及封边；

将所述两阳极基板的底端与所述阴极基板的底端间隔固定于所述隔离底座上，且使所述阴极基板上的两电子发射层分别与所述两阳极基板的发光层正对；

将所述两阳极基板的顶端通过所述支撑体连接于一体，且使所述阴极基板的顶端悬空；

将所述两阳极基板的侧边通过所述封边封接；

将由所述两阳极基板、所述支撑体、所述隔离底座与所述封边围合形成的空间进行抽气，形成一封闭真空空间。

8.如权利要求7所述的场发射双面显示光源的制造方法，其特征在于：在将所述两阳极基板与所述阴极基板安装于所述隔离底座前，先于所述隔离底座上分别设置两第一安装槽及一第二安装槽，且所述第二安装槽置于所述两第一安装槽之间，将所述两阳极基板的底端分别插设固定于所述两第一安装槽内，将所述阴极基板的底端插设固定于所述第二安装槽内。

9.如权利要求8所述的场发射双面显示光源的制造方法，其特征在于：在预备所述隔离底座时，于所述两第一安装槽与所述第二安装槽底部设置贯通所述隔离底座、且供外部电源导线伸入的接线孔。

10.如权利要求7所述的场发射双面显示光源的制造方法，其特征在于：预备所述阴极时，以所述阴极基板为基体采用热化学气相沉积法生长出纳米薄膜作为所述的电子发射层。