[发明专利]一种处理铜/铜阻挡层抛光液的废液的方法

权利要求书

1.一种处理铜/铜阻挡层抛光液的废液的方法，其特征在于：所述方法包括采用化学溶液处理所述废液，所述化学溶液包含氧化剂。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述铜/铜阻挡层抛光液的废液包含能与铜离子生成凝胶的化合物。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于：所述能与铜离子生成凝胶的化合物为唑类化合物和/或羧基类聚合物及其盐。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述唑类化合物及其衍生物选自1，2，3-三氮唑，1H-四氮唑，1，2，4-三氮唑，1-甲基-5氨基四氮唑，5-甲基四氮唑，1-氨基-5-巯基-1，2，4四氮唑，5-苯基四氮唑和1-苯基-5-巯基四氮唑，苯并三氮唑，5-甲基-1，2，3-苯并三氮唑，5-羧基苯并三氮唑、1-羟基-苯并三氮唑，3-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或多种。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述的唑类化合物的浓度为0.001-3wt%。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述的唑类化合物的浓度为0.001-1wt%。。

7.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述羧基类聚合物选自聚丙烯酸，聚甲基丙烯酸，丙烯酸酯共聚物，聚羧酸和聚丙烯酰胺中的一种或多种。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于：所述羧基类聚合物的分子量为1000-300000。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述羧基类聚合物的分子量为1000-10000。

10.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述羧基类聚合物的浓度为0.001-3wt%。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于：所述羧基类聚合物的浓度为0.001-1wt%。

12.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所选盐为钾盐，钠盐和/或氨盐。

13.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述氧化剂选自过氧化氢，过碘酸钾，碘化钾，溴酸钾，高锰酸钾和过硫酸铵中的一种或多种。

14.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述氧化剂的质量百分比浓度为0.1~30wt%。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于：所述氧化剂的质量百分比浓度为0.5~20wt%。